[发明专利]用于形成光栅的装置有效

专利信息
申请号: 201811566456.9 申请日: 2018-12-19
公开(公告)号: CN109407194B 公开(公告)日: 2021-02-09
发明(设计)人: 曾理江;冒新宇;赵宇暄;许晨璐 申请(专利权)人: 清华大学
主分类号: G02B5/18 分类号: G02B5/18;G02B27/48
代理公司: 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 代理人: 刘新宇
地址: 100084*** 国省代码: 北京;11
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摘要:
搜索关键词: 用于 形成 光栅 装置
【说明书】:

本公开涉及一种用于形成光栅的装置,该装置包括基板、反射部件和位置移动部件;基板与反射部件之间呈预设角度;位置移动部件与基板连接,用于使基板相对于反射部件至少延基板上待形成的光栅的栅线方向移动。本公开实施例提供的用于形成光栅的装置,通过位置移动部件使基板相对于反射部件至少延基板上待形成的光栅的栅线方向移动,可以减少曝光过程中激光散斑的影响,便于低杂散光光栅的制作。

技术领域

本公开涉及光学领域,尤其涉及一种用于形成光栅的装置。

背景技术

全息光栅作为一种典型的衍射光学元件,被广泛应用于AR眼镜、光谱分析、精密计量、激光合束、激光脉冲压缩等领域。光栅杂散光是高质量全息光栅的一个重要指标。导致全息光栅杂散光的主要原因是激光散斑,由于曝光过程要求使用相干性好的激光,因此激光散斑问题严重影响全息光栅的质量。

发明内容

有鉴于此,本公开提出了一种用于形成光栅的装置。

根据本公开的一方面提供了一种用于形成光栅的装置,所述装置包括基板、反射部件和位置移动部件;

所述基板与所述反射部件之间呈预设角度;

所述位置移动部件与基板连接,用于使基板相对于反射部件至少延基板上待形成的光栅的栅线方向移动。

在一种可能的实现方式中,所述装置还包括控制部件,所述控制部件被配置为控制所述位置移动部件,以使所述基板相对于反射部件移动。

在一种可能的实现方式中,所述装置还包括旋转部件,

所述反射部件垂直设置于所述旋转部件上,所述位置移动部件设置于所述旋转部件上方,所述基板垂直于所述旋转部件,所述基板和所述反射部件能够随所述旋转部件旋转。

在一种可能的实现方式中,所述位置移动部件包括升降部,所述升降部用于使所述基板延栅线方向移动。

在一种可能的实现方式中,所述位置移动部件包括平移部,所述平移部用于使所述基板延垂直于栅线的方向移动。

在一种可能的实现方式中,所述装置还包括第一光栅和探测部件,所述第一光栅与基板连接,并跟随基板移动;

所述探测部件,用于接收准直激光通过所述第一光栅在空间中形成的干涉场信号,并将所述干涉场信号传递给所述控制部件。

在一种可能的实现方式中,所述控制部件被配置为:

在曝光前,获取准直激光通过所述第一光栅在空间中形成的第一干涉场信号;

在曝光过程中,控制所述位置移动部件,以使得基板延栅线方向移动,并获取准直激光通过所述第一光栅在空间中形成的第二干涉场信号;

在所述第二干涉场信号相对于所述第一干涉场信号的位相变化超过第一阈值时,控制所述位置移动部件,以使所述基板延垂直于栅线的方向移动。

在一种可能的实现方式中,所述第一光栅与所述基板的之间呈大于0且小于第二阈值的预设角度。

在一种可能的实现方式中,所述第一光栅的周期与所述待曝光干涉场的周期的差值的绝对值小于或等于第三阈值,所述待曝光干涉场是准直激光入射所述基板与所述反射部件,在所述基板上形成的干涉场。

本公开实施例通过位置移动部件使基板相对于反射部件至少延基板上待形成的光栅的栅线方向移动,可以减少曝光过程中激光散斑的影响,便于低杂散光光栅的制作。

根据下面参考附图对示例性实施例的详细说明,本公开的其它特征及方面将变得清楚。

附图说明

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