[发明专利]基板走线结构和走线制作方法

说明书

本发明实施例提供一种基板走线结构和走线制作方法。其中，所述基板走线结构上布设有信号线组和冗余线组；所述冗余线组包括第一冗余线和第二冗余线，在所述信号线组中的各信号线的排列方向上，所述信号线组位于所述第一冗余线和所述第二冗余线之间，从而使得位于两条冗余线之间的信号线的线宽均匀，以提高应用该基板走线结构的显示设备的显示质量。

技术领域

本发明涉及显示器技术领域，具体而言，涉及一种基板走线结构和走线制作方法。

背景技术

随着“全面屏”时代的到来，对于液晶显示设备，尤其是智能终端，由于显示区占比变大，导致用于走线的空间越来越小，进而使得走线线宽、线距做得越来越极限，但当走线线距小到曝光机精度附近时，走线的线宽会变大，如对于一列走线，左右两端走线线宽偏小，中间的偏大，这就会造成同种功能走线线宽不均，进而导致显示设备的显示不均。

发明内容

有鉴于此，本发明提供了一种基板走线结构和走线制作方法，能够有效解决上述问题。

一方面，本发明较佳实施例提供一种基板走线结构，所述基板走线结构上布设有信号线组和冗余线组；

所述冗余线组包括第一冗余线和第二冗余线，在所述信号线组中的各信号线的排列方向上，所述信号线组位于所述第一冗余线和所述第二冗余线之间。

在本发明较佳实施例的选择中，所述第一冗余线、所述第二冗余线以及所述信号线组中的各信号线的线宽相等。

在本发明较佳实施例的选择中，所述冗余线组还包括第三冗余线，所述第三冗余线布设于间距大于第一预设值的相邻信号线之间。

在本发明较佳实施例的选择中，所述第三冗余线与相邻的信号线之间的间距与其他各相邻信号线之间的间距相等。

在本发明较佳实施例的选择中，在所述信号线组中的各信号线的排列方向上，所述第一冗余线、所述第二冗余线、所述第三冗余线以及各所述信号线等间隔设置。

另一方面，本发明较佳实施例还提供一种走线制作方法，所述走线制作方法包括：

提供一基板；

基于所述基板制作形成金属层；

基于所述金属层制作形成一蚀刻保护层；

通过掩膜板对所述蚀刻保护层进行曝光后显影，去除所述蚀刻保护层的其中一部分；

对所述金属层进行蚀刻，去除未被所述蚀刻保护层保护的部分，以在所述基板上制作形成第一冗余线、第二冗余线以及位于该第一冗余线和第二冗余线之间的多条信号线；其中：

所述掩膜板上包括透光图案以及与所述第一冗余线对应的第一非透光图案、与所述第二冗余线对应的第二非透光图案以及与多条所述信号线对应的多个第三非透光图案。

在本发明较佳实施例的选择中，在多个所述第三非透光图案的排列方向上，所述第一非透光图案、第二非透光图案以及各所述第三非透光图案的图案宽度相等。

在本发明较佳实施例的选择中，所述掩膜板还包括位于间距大于第一预设值的相邻第三非透光图案之间的第四非透光图案；对所述金属层进行蚀刻，去除未被所述蚀刻保护层保护的部分之后，该金属层上还形成有与该第四非透光图案对应的第三冗余线，且所述第三冗余线和相邻的信号线之间的间距与其他各相邻信号线之间的间距相等。

在本发明较佳实施例的选择中，所述掩膜板还包括图案宽度与所述信号线组中的信号线的线宽之间满足预设关系的第五非透光图案；对所述金属层进行蚀刻，去除未被所述蚀刻保护层保护的部分之后，该金属层上还制作形成有与该第五非透光图案对应的信号线，且该信号线与其他相邻信号线之间的间距小于第二预设值；其中，所述预设关系为所述第五非透光图案的图案宽度＝(第五非透光图案对应的信号线的实验设计线宽)2*第五非透光图案对应的信号线的实验实际线宽。