[发明专利]一种金属抛光方法在审
| 申请号： | 201811576514.6 | 申请日： | 2018-12-22 |
| 公开（公告）号： | CN109500721A | 公开（公告）日： | 2019-03-22 |
| 发明（设计）人： | 周恩 | 申请（专利权）人： | 浙江宏泰精密科技有限公司 |
| 主分类号： | B24B31/116 | 分类号： | B24B31/116;C09G1/02 |
| 代理公司： | 北京汇捷知识产权代理事务所(普通合伙) 11531 | 代理人： | 李宏伟 |
| 地址： | 315000 浙江省宁波市*** | 国省代码： | 浙江;33 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 磨床 退火 送入 化学机械抛光 产品原料 金属抛光 抛光液 抛光 抛光工艺过程 冲床 冷轧板卷 抛光效率 退火处理 清洗池 冲裁 清洗 | ||
1.一种金属抛光方法，其特征在于，包括以下步骤：
S1、对冷轧板卷型材进行退火处理，制得退火型材；
S2、将退火型材送入第一磨床，在第一磨床上使用第一抛光液对退火型材进行初步化学机械抛光，制得抛光型材；
S3、将抛光型材送入清洗池进行清洗，制得产品原料；
S4、将产品原料送入冲床进行冲裁，制得初产品；
S5、将初产品送入第一磨床，在第一磨床上使用第二抛光液对初产品进行二次化学机械抛光，制得产品。
2.根据权利要求1所述的一种金属抛光方法，其特征在于：步骤S2中的所述第一抛光液包括去离子水、金属氧化物磨料粒子、双氧水、分散剂。
3.根据权利要求1所述的一种金属抛光方法，其特征在于：步骤S2中的所述退火型材的晶粒度为5.5-6.5级。
4.根据权利要求1所述的一种金属抛光方法，其特征在于：步骤S2中的第一磨床为平面第一磨床，平面第一磨床包括第一磨床本体(1)，所述第一磨床本体(1)的顶部设置有凹槽(10)，第一抛光液设于凹槽(10)中，凹槽(10)中还设有下工作台(11)，下工作台(11)的顶面低于第一抛光液的液面，下工作台(11)的上方设置有上工作台(12)，上工作台(12)传动连接有液压缸(2)。
5.根据权利要求1所述的一种金属抛光方法，其特征在于：步骤S5中的所述第二抛光液包括纳米二氧化硅、水溶性聚醚胺、去离子水、以及聚丙烯酸或聚丙烯酸盐中的一种或两种，其中纳米二氧化硅的粒径为50～70纳米。
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