[发明专利]线宽标准样片及线宽标准样片中标准线条的循迹方法

说明书

本发明适用于显微镜校准技术领域，提供了一种线宽标准样片及线宽标准样片中标准线条的循迹方法，所述方法包括：在所述线宽标准样片中查找循迹箭头；根据所述循迹箭头指示的预设方向，查找定位标记，所述预设方向为所述循迹箭头指示的标准线条所在区域的方向；根据所述定位标记，延着所述预设方向移动直至观察到指示标尺；根据所述指示标尺和预设标尺‑线条对应关系，查找待寻标准线条。本发明通过循迹箭头、定位标记和指示标尺一步步对标准线条进行定位指示，能够在线宽标准样片中快速的找到纳米级别的标准线条，实现扫描电子显微镜的快速校准。

技术领域

本发明属于显微镜校准技术领域，尤其涉及一种线宽标准样片及线宽标准样片中标准线条的循迹方法。

背景技术

关键尺寸(Critical Dimension，简称CD)是指在集成电路光掩模制造及光刻工艺中为评估及控制工艺的图形处理精度，设计的一种反映集成电路特征线条宽度的专用线条图形。简而言之，关键尺寸是集成电路中宽度最小的线条，它是衡量集成电路制造和设计水平的重要尺度，关键尺寸越小，芯片的集成度越高。

随着纳米科技、生命科学的蓬勃发展，越来越多的关键尺寸测量仪器应用于前沿科学研究、产品设计和大规模生产的过程质量控制中。关键尺寸测量仪器主要包括：扫描电子显微镜(SEM)、原子力显微镜(AFM)、光学关键尺寸测量系统(OCD)等等。其中，应用最为广泛的是扫描电子显微镜。

鉴于关键尺寸测量仪器的重要性，国内外很多技术机构都开展了相关仪器校准技术的研究工作，目前主流的校准方案是使用单一线条的线宽标准样片来校准相关仪器，但是在观察到标准线条的情况下，显微镜的视场大小仅为线宽标准样片实际大小的一亿分之一，直接使用扫描电子显微镜在线宽标准样片上寻找标准线条犹如大海捞针。

发明内容

有鉴于此，本发明实施例提供了一种线宽标准样片及线宽标准样片中标准线条的循迹方法，以解决现有技术中使用扫描电子显微镜在线宽标准样片上无法快速找到标准线条的问题。

本发明实施例的第一方面提供了一种线宽标准样片，包括：

样片底片、指示标记及多组不同标称值的标准线条；

所述指示标记及所述多组不同标称值的标准线条绘制于所述样片底片上；

所述指示标记用于指示所述标准线条在所述样片底片中的位置。

本发明实施例的第二方面提供了一种线宽标准样片中标准线条的循迹方法，所述线宽标准样片具有如上所述的结构，所述方法包括：

在所述线宽标准样片中查找循迹箭头；

根据所述循迹箭头指示的预设方向，查找定位标记，所述预设方向为所述循迹箭头指示的标准线条所在区域的方向；

根据所述定位标记，延着所述预设方向移动直至观察到指示标尺；

根据所述指示标尺和预设标尺-线条对应关系，查找待寻标准线条。

本发明实施例与现有技术相比存在的有益效果是：本发明提供的线宽标准样片中标准线条的循迹方法，首先在所述线宽标准样片中查找循迹箭头；然后根据所述循迹箭头指示的预设方向，查找定位标记，所述预设方向为所述循迹箭头指示的标准线条所在区域的方向；最后根据所述定位标记，延着所述预设方向移动直至观察到指示标尺；根据所述指示标尺和预设标尺-线条对应关系，查找待寻标准线条。本发明实施例通过循迹箭头、定位标记和指示标尺对标准线条一步步循序渐进的进行定位指示，能够在线宽标准样片中快速的找到纳米级别的标准线条，实现扫描电子显微镜的快速校准。

附图说明

为了更清楚地说明本发明实施例中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本发明的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动性的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。