[发明专利]一种基于菌绿素的纳米金属-有机框架光敏剂及制备方法

权利要求书

1.一种基于菌绿素的纳米金属-有机框架光敏剂，其特征在于，所述基于菌绿素的纳米金属-有机框架由金属离子Hf⁴⁺和菌绿素通过配位键形成；

所述基于菌绿素的纳米金属-有机框架为立方晶系，且平均粒径在250nm以下；

所述基于菌绿素的纳米金属-有机框架的晶体空间组群为Mr＝5263.82，晶体学参数：α＝90.00°，β＝90.00°，γ＝90.00°，z＝4。

2.一种如权利要求1所述基于菌绿素的纳米金属-有机框架光敏剂的制备方法，其特征在于，制备方法的步骤包括：

S1、将金属离子Hf⁴⁺溶于溶剂中，得到Hf⁴⁺溶液；将对苯甲酸菌绿素溶于溶剂中，得到对苯甲酸菌绿素溶液；

S2、将S1中得到的Hf⁴⁺溶液、对苯甲酸菌绿素溶液和乙酸混合，得到待反应混合液；

S3、对所述待反应混合液进行水热反应；

S4、对水热反应后的混合液进行离心洗涤，收集沉淀物，得到基于菌绿素的纳米金属-有机框架。

3.根据权利要求2所述的基于菌绿素的纳米金属-有机框架光敏剂的制备方法，其特征在于，所述Hf⁴⁺溶液和所述对苯甲酸菌绿素溶液的浓度均为0.001-0.1mol/L。

4.根据权利要求2所述的基于菌绿素的纳米金属-有机框架光敏剂的制备方法，其特征在于，所述待反应混合液中Hf⁴⁺和对苯甲酸菌绿素的摩尔比为1：1。

5.根据权利要求2所述的基于菌绿素的纳米金属-有机框架光敏剂的制备方法，其特征在于，所述Hf⁴⁺溶液和/或所述对苯甲酸菌绿素溶液的溶剂为DMF。

6.根据权利要求2所述的基于菌绿素的纳米金属-有机框架光敏剂的制备方法，其特征在于，所述水热反应的条件为：温度范围是85-105℃，反应时间是2-5天。

7.根据权利要求2所述的基于菌绿素的纳米金属-有机框架光敏剂的制备方法，其特征在于，所述S4的具体步骤为：分别用DMF、三乙胺/乙醇以及乙醇对水热反应后的混合液进行多次离心洗涤，直至上清液没有颜色，再收集沉淀物并干燥，得到基于菌绿素的纳米金属-有机框架。

8.一种如权利要求1所述基于菌绿素的纳米金属-有机框架光敏剂的应用，其特征在于，所述基于菌绿素的纳米金属-有机框架光敏剂用于制备光动力治疗肿瘤或浅表层皮肤病的药物。