[发明专利]可用于去毛刺的去胶剂及其制备方法和应用有效
申请号: | 201811599894.5 | 申请日: | 2018-12-26 |
公开(公告)号: | CN111363631B | 公开(公告)日: | 2023-04-28 |
发明(设计)人: | 王溯;蔡进 | 申请(专利权)人: | 上海新阳半导体材料股份有限公司 |
主分类号: | C11D1/14 | 分类号: | C11D1/14;C11D1/72;C11D1/22;C11D3/10;C11D3/04;C11D3/30;C11D3/20;C11D3/28;C11D3/33;C11D3/32;C11D3/34;C11D3/60 |
代理公司: | 上海弼兴律师事务所 31283 | 代理人: | 薛琦;王卫彬 |
地址: | 201616 *** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 用于 毛刺 去胶剂 及其 制备 方法 应用 | ||
1.一种去胶剂,其特征在于,其包括下述质量分数的组分:20%-70%的溶剂、10%-50%有机胺、0.01%-50%还原剂、0.01%-5%无机碱、0.01%-10%表面活性剂、0.1%-5%挥发结晶抑制剂和水;所述去胶剂的pH值为7.5-13.5,所述挥发结晶抑制剂为凡士林和氯化石蜡的混合物,所述凡士林与所述氯化石蜡的质量比为1:1~3:1;上述各组分的质量百分比,是指在各组分的质量占所有组分总质量的质量百分比;
所述的溶剂为异丙醇、2-咪唑烷酮、二甲基亚砜、四氢呋喃、乙二醇单乙醚和乳酸乙酯中的一种或多种;
所述的有机胺为二乙醇胺、二乙烯三胺、单乙醇胺、2-氨基乙酸、异丙醇胺和N-甲基二乙醇胺中的一种或多种;
所述的还原剂为盐酸羟胺、硫酸羟胺、甲磺酰肼、水合肼、联氨、维生素C、对甲苯磺酸肼、柠檬酸和硼氢化钠中的一种或多种;
所述的无机碱为碳酸盐类无机碱、碳酸氢盐类无机碱、氢氧化盐类无机碱和氨水中的一种或多种;
所述表面活性剂为异辛醇硫酸钠、聚乙烯吡咯烷酮、十二烷基苯磺酸、MOA-5PK、MOA-3PK和OP-10中的一种或多种;
所述氯化石蜡为氯化石蜡42、氯化石蜡52和氯化石蜡70中的一种或多种;
所述凡士林CAS号为8009-03-8。
2.如权利要求1所述的去胶剂,其特征在于,所述的溶剂的质量分数为35%-55%;
和/或,所述的有机胺的质量分数为15%-45%;
和/或,所述的还原剂的质量分数为0.1%-10%;
和/或,所述的无机碱的质量分数为0.1%-4%;
和/或,所述的表面活性剂的质量分数为0.1%-5%;
和/或,所述挥发结晶抑制剂的含量为2.0%-3.0%;
和/或,所述凡士林与所述氯化石蜡的质量比为2:1~3:1;
和/或,所述去胶剂的pH值为8-12。
3.如权利要求2所述的去胶剂,其特征在于,所述的溶剂的质量分数为40%-50%;
和/或,所述的有机胺的质量分数为20%-40%;
和/或,所述的还原剂的质量分数为0.15%-5%;
和/或,所述的无机碱的质量分数为0.15%-0.35%;
和/或,所述的表面活性剂的质量分数为0.15%-3%;
和/或,所述挥发结晶抑制剂的含量为2.5%;
和/或,所述去胶剂的pH值为9-11。
4.如权利要求1所述的去胶剂,其特征在于,所述氯化石蜡为氯化石蜡52。
5.如权利要求1所述的去胶剂,其特征在于,所述的去胶剂的原料中不包括增稠剂。
6.如权利要求5所述的去胶剂,其特征在于,所述增稠剂为硫酸钠、氯化钠、硼砂、甲基纤维素、羟丙基甲基纤维素、羟乙基纤维素、海藻酸钠、聚丙烯酸钠、聚丙烯酰胺和聚乙烯醇中的一种或多种。
7.一种如权利要求1~6任一项所述的去胶剂,在去除集成电路封装后处理中的tape胶和/或溢料中的应用。
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