[发明专利]一种陶瓷电路板孔壁表面改性及金属化的加工方法在审

专利信息
申请号: 201811602029.1 申请日: 2018-12-26
公开(公告)号: CN109688732A 公开(公告)日: 2019-04-26
发明(设计)人: 唐宏华;林映生;陈春;胡光辉;卫雄;李光平;吴军权 申请(专利权)人: 惠州市金百泽电路科技有限公司
主分类号: H05K3/42 分类号: H05K3/42;H05K1/03
代理公司: 惠州市超越知识产权代理事务所(普通合伙) 44349 代理人: 陈文福;陈惠珠
地址: 516000 广东省*** 国省代码: 广东;44
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摘要:
搜索关键词: 金属化 陶瓷电路板 激光钻孔 孔壁表面 改性 附着力 加工 蚀刻 中间陶瓷层 电镀效率 高温烧结 化学沉铜 基础材料 客户要求 陶瓷基材 电镀 覆铜层 陶瓷板 陶瓷层 最大化 覆铜 基铜 开窗 铜箔 陶瓷
【说明书】:

发明提供一种陶瓷电路板孔壁表面改性及金属化的加工方法,其特征在于,所述双面陶瓷板包括中间陶瓷层、以及设置在陶瓷层两侧的覆铜层;包括以下步骤:S1.陶瓷基材准备;S2.激光钻孔前预蚀刻开窗;S3.孔金属化,激光钻孔后进行化学沉铜。本发明采用覆铜的高温烧结陶瓷作为基础材料来加工,确保原始基铜有良好的附着力;同时可根据客户要求来选择适宜的铜箔厚度,降低后续电镀时间,最大化提高电镀效率。

技术领域

本发明属于线路板加工技术领域,具体涉及一种陶瓷电路板孔壁表面改性及金属化的加工方法。

背景技术

陶瓷基材具有优异的耐温性、耐化性、尺寸稳定性及高导热性,因此在某些特殊领域具有不可替代的技术地位;目前业界常用的陶瓷基材以三氧化二铝或氮化铝为主,基材表面可高温烧结铜箔或特殊处理后真空电镀铜;陶瓷基材的硬度非常高,达1500HV以上,超过很多合金钻刀的硬度,因此采用常规的机械钻孔方式很难实现孔加工,当前业界普遍的做法是采用激光方式钻孔再孔金属化,但如果陶瓷基材表面已覆铜:则铜厚会直接影响激光钻孔的质量,因此双面陶瓷板大多采购纯陶瓷基材(不覆铜)来加工,具体流程如下:

纯陶瓷基材(不覆铜)→ 激光钻孔 → 真空电镀→电镀铜加厚→图形转移

→蚀刻→ 得到需要的导电图形。

按上述流程及方法加工,需使用昂贵的真空电镀设备,一般PCB工厂不具备;同时真空电镀铜的结合力没有高温烧结的好,且厚度非常薄,事后需长时间电镀加厚,当客户需要100-200um厚铜时,其电镀时间长达5H以上,效率低下,无法满足批量加工要求,因此急需在传统PCB工艺基础上开发一种工业化的陶瓷板批量加工方法。

同时,按照现有技术传统陶瓷板加工方法,主要还面临以下技术缺点:

A. 需使用昂贵的真空电镀设备,一般PCB工厂不具备;同时加工成本较高,不具有竞争优势;

B.陶瓷表面真空电镀铜的结合力欠佳,没有高温烧结铜箔的附着力好;

C.真空电镀铜的厚度非常薄,事后需长时间电镀加厚,当客户需要100-200um厚铜时,其电镀时间长达5H以上,效率低下,无法满足批量加工要求。

发明内容

有鉴于此,本发明提供一种陶瓷电路板孔壁表面改性及金属化的加工方法,本发明采用覆铜的高温烧结陶瓷作为基础材料来加工,确保原始基铜有良好的附着力;同时可根据客户要求来选择适宜的铜箔厚度,降低后续电镀时间,最大化提高电镀效率。

本发明的技术方案为:一种陶瓷电路板孔壁表面改性及金属化的加工方法,其特征在于,所述双面陶瓷板包括中间陶瓷层、以及设置在陶瓷层两侧的覆铜层;包括以下步骤:

S1.陶瓷基材准备;

S2. 激光钻孔前预蚀刻开窗;

S3. 孔金属化,激光钻孔后进行化学沉铜;

所述步骤S2包括以下具体步骤:

S21. 文件设计,在金属化孔部位设计开窗文件;

S22.局部开窗,先整板贴干膜,然后用开窗文件曝光,显影后露出铜面;

S23.局部蚀刻,将开窗的铜面蚀刻掉,露出陶瓷基材;

S24.电镀加厚,整板电镀,将孔铜加镀到客户需要的厚度要求。

进一步的,所述步骤S21中,开窗文件与孔等大。

进一步的,所述中间陶瓷层为三氧化二铝陶瓷层。

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