[发明专利]一种光模块参数配置方法、装置、设备及存储介质有效

专利信息
申请号: 201811603013.2 申请日: 2018-12-26
公开(公告)号: CN109449727B 公开(公告)日: 2020-11-10
发明(设计)人: 郑林;彭智祥;刘树文;王艳红 申请(专利权)人: 东莞铭普光磁股份有限公司
主分类号: H01S3/00 分类号: H01S3/00;H01S5/00
代理公司: 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 代理人: 罗满
地址: 523343 广东*** 国省代码: 广东;44
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摘要:
搜索关键词: 一种 模块 参数 配置 方法 装置 设备 存储 介质
【权利要求书】:

1.一种光模块参数配置方法,其特征在于,包括:

将光模块放置在高温环境下,当所述光模块中MCU温度指针达到目标工作温度时,调节EML激光器核心温度值、偏压电流值和反向偏置电压值,使所述光模块的光功率、消光比、通道代价满足目标值;所述高温大于所述EML激光器的目标温度;

以所述光模块中MCU温度指针为索引,保持偏压电流值不变,根据服务器上预先存储的数据库中EML激光器核心温度值、反向偏置电压值与调节后的EML激光器核心温度值、反向偏置电压值的对应关系,动态更新本地数据库中EML激光器核心温度值、反向偏置电压值;

根据更新后的本地数据库中的参数,在常温和低温下分别测试所述光模块的光功率、消光比和通道代价,若性能正常,则完成参数配置;所述低温小于所述EML激光器的目标温度。

2.根据权利要求1所述的光模块参数配置方法,其特征在于,在将光模块放置在高温环境下之前,还包括:

以光模块中MCU温度指针为索引,下载服务器上预先存储的数据库中设置的参数值,根据下载好的参数值设置初始的EML激光器核心温度值,偏压电流值和反向偏置电压值。

3.根据权利要求1所述的光模块参数配置方法,其特征在于,在调节过程中,EML激光器核心温度值在步进减小时,反向偏置电压值同步增加。

4.根据权利要求2所述的光模块参数配置方法,其特征在于,动态更新本地数据库中EML激光器核心温度值、反向偏置电压值,具体包括:

将下载好的服务器上预先存储的数据库中EML激光器核心温度值、反向偏置电压值进行数据动态平移以更新本地数据库。

5.根据权利要求2所述的光模块参数配置方法,其特征在于,在以光模块中MCU温度指针为索引,下载服务器上预先存储的数据库中设置的参数值,根据下载好的参数值设置初始的EML激光器核心温度值,偏压电流和反向偏置电压值之前,还包括:

下载服务器上预先存储的数据库中光模块的MCU配置,筛选所述光模块的光眼图交叉点参数;

若筛选出的所述光眼图交叉点参数未在设定范围内,则对所述MCU进行调节。

6.根据权利要求5所述的光模块参数配置方法,其特征在于,在下载服务器上预先存储的数据库中光模块的MCU配置,筛选所述光模块的光眼图交叉点参数之前,还包括:

根据EML激光器出厂的参数,筛选满足工作波长要求的EML激光器;

将筛选出的所述EML激光器集成在光模块中。

7.根据权利要求1所述的光模块参数配置方法,其特征在于,所述高温环境为商业级70度,工业级85度。

8.一种光模块参数配置装置,其特征在于,包括:

高温调节模块,用于将光模块放置在高温环境下,当所述光模块中MCU温度指针达到目标工作温度时,调节EML激光器核心温度值、偏压电流值和反向偏置电压值,使所述光模块的光功率、消光比、通道代价满足目标值;所述高温大于所述EML激光器的目标温度;

数据库更新模块,用于以所述光模块中MCU温度指针为索引,保持偏压电流值不变,根据服务器上预先存储的数据库中EML激光器核心温度值、反向偏置电压值与调节后的EML激光器核心温度值、反向偏置电压值的对应关系,动态更新本地数据库中EML激光器核心温度值、反向偏置电压值;

性能测试模块,用于根据更新后的本地数据库中的参数,在常温和低温下分别测试所述光模块的光功率、消光比和通道代价,若性能正常,则完成参数配置;所述低温小于所述EML激光器的目标温度。

9.一种光模块参数配置设备,其特征在于,包括处理器和存储器,其中,所述处理器执行所述存储器中保存的计算机程序时实现如权利要求1至7任一项所述的光模块参数配置方法。

10.一种计算机可读存储介质,其特征在于,用于存储计算机程序,其中,所述计算机程序被处理器执行时实现如权利要求1至7任一项所述的光模块参数配置方法。

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