[发明专利]一种太阳能电池制备方法

权利要求书

1.一种太阳能电池制备方法，其特征在于，包括：

步骤1，对制绒后的硅片正面进行硼轻扩散后形成硼轻扩散层以及BSG层；

步骤2，在所述BSG层的预定区域进行激光开膜，去除所述掩膜层形成开膜区；

步骤3，在所述开膜区进行硼重扩散，形成硼重扩散区；

步骤4，去除所述BSG层；

步骤5，在所述硅片正面设置正面钝化层和正面电极层。

2.如权利要求1所述太阳能电池制备方法，其特征在于，在所述步骤1还包括：对制绒后的硅片正面进行硼轻扩散前在背面沉积掩膜层。

3.如权利要求2所述太阳能电池制备方法，其特征在于，所述掩膜层为氮氧化硅掩膜层、氮化硅掩膜层或氧化硅掩膜层。

4.如权利要求3所述太阳能电池制备方法，其特征在于，所述步骤4包括：

采用HF和HNO₃混合溶液去除所述BSG层和所述掩膜层。

5.如权利要求4所述太阳能电池制备方法，其特征在于，所述步骤6包括：

在所述硅片的正面丝网印刷银电极层和在背面丝网印刷银铝电极层。

6.如权利要求5所述太阳能电池制备方法，其特征在于，还包括在所述银电极层与所述硅片之间沉积正面钝化层、减反射膜层。

7.如权利要求6所述太阳能电池制备方法，其特征在于，所述正面钝化层为氮化硅钝化层。

8.如权利要求7所述太阳能电池制备方法，其特征在于，所述减反射膜层为二氧化硅减反射膜层或三氧化二铝减反射膜层。