[发明专利]激光处理设备及激光处理方法

权利要求书

1.一种激光处理设备，其特征在于，包括：

腔室，具有位于所述腔室中的处理空间以及安装在所述腔室的一侧上的透射窗口；

平台，经过安装以便将衬底定位在所述腔室的内部；

第一检测单元，配置成检测从所述衬底反射的反射光；

第二检测单元，配置成检测所述衬底的高度；以及

感测单元，收集通过所述第一检测单元以及所述第二检测单元检测的数据，分析收集的所述数据以及确定所述衬底的变形。

2.根据权利要求1所述的激光处理设备，其中

所述第一检测单元检测所述平台的每个位置的反射光强度，且

所述第二检测单元针对所述平台的每个位置以及所述衬底的每个区段来检测所述衬底的所述高度。

3.根据权利要求1所述的激光处理设备，其中所述第二检测单元定位在所述衬底的处理方向上的所述第一检测单元的前面。

4.根据权利要求2所述的激光处理设备，其中所述感测单元包括：

收集部件，配置成存储检测到的所述反射光强度的值以及检测到的所述衬底的所述高度的值；

分析部件，将存储在所述收集部件中的所述值分别与参考强度的值以及参考高度的值进行比较，且使用比较结果来计算第一区以及第二区；以及

确定部件，配置成将所述第一区与所述第二区的交叠区域确定为变形区域。

5.根据权利要求1所述的激光处理设备，其包括配置成显示所述感测单元的确定结果的显示单元。

6.根据权利要求5所述的激光处理设备，其中所述显示单元将所述感测单元中收集的所述数据以及所述感测单元的所述确定结果实时地显示在屏幕上。

7.一种激光处理方法，其特征在于，包括：

将衬底定位在激光束的传播路径上；

在处理方向上移动所述衬底时，用所述激光束照射所述衬底；

检测从所述衬底反射的反射光；

检测所述衬底的高度；以及

收集以及分析检测到的数据且使用分析结果来确定所述衬底的变形。

8.根据权利要求7所述的激光处理方法，其中在检测所述反射光中，检测所述平台的每个位置的反射光强度，且在检测所述高度中，针对所述平台的每个位置以及所述衬底的每个区段来检测所述衬底的所述高度。

9.根据权利要求7所述的激光处理方法，其中在移动所述衬底时，一起执行检测所述反射光以及检测所述高度，且检测所述反射光的位置位于检测处理方向上的所述高度的位置的下游。

10.根据权利要求8所述的激光处理方法，其中确定所述衬底的变形包括：

数据收集操作，其中存储检测到的所述反射光强度的值以及检测到的所述衬底的所述高度的值；

数据分析操作，其中将检测到的以及收集的所述值与预定参考值相比较，且通过使用比较结果来计算第一区以及第二区；以及

确定操作，其中将所述第一区与所述第二区的交叠区域确定为变形区域。

11.根据权利要求10所述的激光处理方法，其中所述数据分析操作包括：

将检测到的所述反射光强度的所述值与预设参考强度值进行比较，选择比较差值超出误差值设定范围的检测到的所述反射光强度的所述值，且将所述衬底上的对应于具有检测到的以及选择的所述反射光强度的所述值的所述平台的所述位置的区域作为所述第一区计算；以及

将检测到的所述衬底的所述高度的所述值与预设参考高度值进行比较，选择比较差值超出误差值设定范围的检测到的所述衬底的所述高度的所述值，且将所述衬底上的对应于具有检测到的以及选择的所述衬底的所述高度的所述值的所述平台的位置以及所述衬底的区段的区域作为所述第二区计算。

12.根据权利要求7所述的激光处理方法，包括输出收集的所述数据以及关于所述衬底的变形的确定结果。