[发明专利]一种气体处理装置在审

专利信息
申请号: 201811613804.3 申请日: 2018-12-27
公开(公告)号: CN111375268A 公开(公告)日: 2020-07-07
发明(设计)人: 卢继奎 申请(专利权)人: 东泰高科装备科技有限公司
主分类号: B01D53/00 分类号: B01D53/00;B01D53/74;B01D53/76;B08B1/00;B08B1/04;B08B5/02
代理公司: 北京易捷胜知识产权代理事务所(普通合伙) 11613 代理人: 齐胜杰
地址: 102200 北京市昌平*** 国省代码: 北京;11
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摘要:
搜索关键词: 一种 气体 处理 装置
【权利要求书】:

1.一种气体处理装置,其特征在于,

包括腔室(1),加热装置(2),气体管道(3)和点火装置(10);

气体管道(3)包括入口段和反应段,入口段位于气体处理装置的外侧,反应段位于腔室(1)内并与腔室(1)连通,加热装置(2)设置在气体管道(3)的反应段上,被处理气体在反应段内受热分解;

气体处理装置上还设置有助燃气体管路,助燃气体管路与腔室(1)连通;

点火装置(10)点火端设置在腔室(1)里面,并用于引燃被处理气体受热分解后的产物。

2.根据权利要求1所述的气体处理装置,其特征在于,气体处理装置还包括由内层和外层构成的壳体,内层组成的封闭空间构成腔室(1);

还设置有冷却系统(9),所述冷却系统(9)设置在内层与外层之间。

3.根据权利要求2所述的气体处理装置,其特征在于,

所述内层侧壁包括两个对称设置的膜片结构,该膜片结构能够在膜片驱动装置的带动下发生形变;

且腔室(1)的侧壁与气体处理装置的外层通过波纹管连接。

4.根据权利要求3所述的气体处理装置,其特征在于,

膜片驱动装置包括两个对称设置的磁流体(7),两个所述磁流体(7)分别与两个膜片结构固定连接。

5.根据权利要求4所述的气体处理装置,其特征在于,

在腔室(1)内还设置有清扫装置(4),所述清扫装置(4)中心对称设置在腔室(1)内,用于对腔室(1)侧壁进行清扫,清扫装置(4)上设置有金属刷,金属刷转动起来能够对膜片结构的表面起到清扫的作用;

所述清扫装置(4)与磁流体(7)内部的旋转轴转动连接,通过转动所述旋转轴能够带动清扫装置(4)上的金属刷转动,磁流体(7)内有空腔结构,能够将吹扫用的气体通过所述空腔结构通入到清扫装置(4)中,并且能够在金属刷转动的同时将吹扫用的气体持续通入到清扫装置(4)中。

6.根据权利要求1所述的气体处理装置,其特征在于,

气体处理装置还包括气体流量控制装置(6),气体流量控制装置(6)设置在助燃气体管路上控制助燃气体管路的通闭。

7.根据权利要求1所述的气体处理装置,其特征在于,

气体处理装置还包括气体探测装置(8),气体探测装置(8)的检测端位于真空腔内用于探测腔室(1)内的气体含量。

8.根据权利要求1所述的气体处理装置,其特征在于,腔室(1)的下面设置有回收装置(11),回收装置(11)的入口与腔室(1)贯通。

9.根据权利要求8所述的气体处理装置,其特征在于,

回收装置(11)包括两个回收罐(11a),每个回收罐(11a)上方设置有两个阀门(11b)。

10.根据权利要求1所述的气体处理装置,其特征在于,

还包括测温装置(5),所述测温装置(5)探测端设置在腔室(1)内,用于检测气体管道(3)内的温度,保证气体管道(3)内的温度处于设定范围;

当点火装置(10)点火后,测温装置(5)检测到温度超限后,冷却系统(9)会作用于腔室(1)的侧壁对腔室(1)的侧壁进行降温。

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