[发明专利]靶材的处理装置及处理方法在审
申请号: | 201811621514.3 | 申请日: | 2018-12-28 |
公开(公告)号: | CN111378941A | 公开(公告)日: | 2020-07-07 |
发明(设计)人: | 姚力军;潘杰;王学泽;寿奉粮 | 申请(专利权)人: | 宁波江丰电子材料股份有限公司 |
主分类号: | C23C14/35 | 分类号: | C23C14/35;C23G1/14;C23F1/32;C23G3/00;C23F1/08 |
代理公司: | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人: | 吴敏 |
地址: | 315400 浙江省宁波*** | 国省代码: | 浙江;33 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 处理 装置 方法 | ||
1.一种靶材的处理装置,其特征在于,包括:
清洗架,所述清洗架内部设有通气管;
所述通气管侧壁上具有通孔。
2.如权利要求1所述的处理装置,其特征在于,所述通孔直径为0.5mm-1.5mm。
3.如权利要求1所述的处理装置,其特征在于,所述通气管侧壁外表面绑有扎带。
4.如权利要求1所述的处理装置,其特征在于,还包括:上气装置,所述上气装置具有上气管,所述上气管连接所述通气管一端。
5.如权利要求1所述的处理装置,其特征在于,还包括清洗槽,盛放所述清洗架,所述清洗槽底部设置有过滤网。
6.一种靶材的处理方法,其特征在于,包括:
提供靶材;
将所述靶材放置于清洗架内;
所述通气管内气体通过所述通孔对所述靶材表面进行处理。
7.如权利要求6所述的处理方法,其特征在于,将所述靶材放置于清洗架内之后,还包括:提供清洗槽,将所述清洗架盛放于所述清洗槽内。
8.如权利要求7所述的处理方法,其特征在于,所述清洗槽内部装有腐蚀液。
9.如权利要求8所述的处理方法,其特征在于,所述腐蚀液为质量分数为15%-20%的氢氧化钠溶液。
10.如权利要求7所述的处理方法,其特征在于,所述通气管内气体通过所述通孔对所述靶材表面进行处理之后,还包括:对所述清洗槽内的残留物进行过滤。
11.如权利要求6所述的处理方法,其特征在于,通气管内气体通过所述通孔向所述靶材表面进行处理之前,还包括:提供上气装置,通过所述上气装置向所述通气管内通入压缩气体。
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