[发明专利]一种精密元件的抛光、清洗工艺

权利要求书

1.一种精密元件的抛光、清洗工艺，其特征在于，该抛光、清洗工艺包括以下步骤：

(1)抛光：将待抛光的精密元件压在抛光模上进行抛光；

(2)清洗：

(A)清洗液中浸泡，去离子水冲洗；

(B)乙醇超声清洗；

(C)去离子水高压喷淋清洗；

(D)干燥，得精密元件。

2.根据权利要求1所述的一种精密元件的抛光、清洗工艺，其特征在于，该抛光、清洗工艺包括以下步骤：

(1)抛光：将抛光模固定在磨床主轴上，在抛光模的表面上倒入抛光液，将待抛光的精密元件压在抛光模上，开启磨床，进行抛光；

(2)清洗：

(A)将步骤(1)所得的精密元件放入清洗液中浸泡，然后用去离子水冲洗；

(B)将步骤(A)所得的精密元件置于乙醇中进行超声清洗；

(C)将步骤(B)所得的精密元件用去离子水进行高压喷淋清洗；

(D)对步骤(C)所得的精密元件进行干燥，得精密元件。

3.根据权利要求2所述的一种精密元件的抛光、清洗工艺，其特征在于，该抛光、清洗工艺包括以下步骤：

(1)抛光：将抛光模固定在磨床主轴上，在抛光模的表面上倒入抛光液，将待抛光的精密元件压在抛光模上，开启磨床，磨床主轴的转速为50-100r/min，抛光模的表面对精密元件的压力为0.4-1.2bar，抛光温度为15-25℃；

(2)清洗：

(A)将步骤(1)所得的精密元件放入40-60℃的清洗液中浸泡5-10min，然后用去离子水冲洗3-5min；

(B)将步骤(A)所得的精密元件置于30-50℃的乙醇中依次在频率为20-40KHz、60-80KHz、120-150KHz下分别超声清洗3-5min；

(C)将步骤(B)所得的精密元件用40-60℃的去离子水进行高压喷淋清洗，出水压力为5-10MPa，出水口距离精密元件表面3-5cm，清洗速率为0.2-0.5m²/min；

(D)对步骤(C)所得的精密元件进行干燥，得精密元件。

4.根据权利要求3所述的一种精密元件的抛光、清洗工艺，其特征在于，所述步骤(1)中抛光模的制备方法：将固体抛光沥青在45-100℃下熔化成液体抛光沥青，向上述液体抛光沥青中加入氧化铝粉，所述抛光沥青与氧化铝粉的质量比为3-10:1，搅拌混合均匀，得到抛光沥青与氧化铝粉的混合液，将上述混合液倒在平整基板上，自然冷却，固化，得到抛光模。

5.根据权利要求4所述的一种精密元件的抛光、清洗工艺，其特征在于：在所述抛光模表面开槽，槽深度为1-5mm，槽宽为1-3mm，所述槽用于盛放抛光液。

6.根据权利要求5所述的一种精密元件的抛光、清洗工艺，其特征在于，所述抛光沥青为55#抛光沥青、64#抛光沥青、73#抛光沥青或82#抛光沥青中的任意一种。

7.根据权利要求3至6中任一项所述的一种精密元件的抛光、清洗工艺，其特征在于，所述步骤(1)中抛光液包括以下重量份数的组分：抛光粉10-25份、分散剂1-5份、表面活性剂2-8份、水60-100份和pH调节剂，所述pH调节剂的用量，以抛光液pH值达到8.0-11.0为准。

8.根据权利要求7所述的一种精密元件的抛光、清洗工艺，其特征在于：所述抛光粉为二氧化硅抛光粉、碳化硅抛光粉、氟氧化镧铈抛光粉或二氧化锆抛光粉中的任意两种，所述分散剂为聚乙二醇、聚丙烯酸钠、六偏磷酸钠、聚乙烯吡咯烷酮或十二烷基硫酸钠中的任意一种，所述表面活性剂为十二烷基苯磺酸钠、硬脂酸二乙醇酰胺、十六酸异丙酯、单硬脂酸甘油酯或十六烷基三甲基氯化铵中的任意一种，所述pH调节剂为三乙醇胺、碳酸氢钠、氨水、碳酸钠或氢氧化钠中的任意一种。