[发明专利]一种精密元件的抛光、清洗工艺

说明书

本发明公开了一种精密元件的抛光、清洗工艺，该抛光、清洗工艺包括以下步骤：将待抛光的精密元件压在抛光模上进行抛光；将抛光后的精密元件置于清洗液中浸泡，去离子水冲洗；乙醇超声清洗；去离子水高压喷淋清洗；干燥，得精密元件；本发明将抛光沥青和氧化铝粉按一定配比制成抛光模，利用该抛光模对精密元件进行抛光，可使精密元件达到很好的表面光洁度，保证精密元件的加工精度；清洗液能够彻底去除精密元件表面的玷污、白斑等；采用多频率超声清洗工艺，使清洗后的精密元件表面具有很好的洁净度；检测结果表明，本发明的抛光、清洗工艺对精密元件具有很好的抛光效果和清洁效果。

技术领域

本发明涉及精密元件的加工领域，具体是一种精密元件的抛光、清洗工艺。

背景技术

精密元件经过切割、研磨后，要进入到抛光阶段，目前，国内对精密元件的抛光，大多采用抛光沥青制成沥青抛光模(盘)对精密元件进行抛光，抛光沥青的硬度直接决定抛光模的硬度，高硬度的抛光沥青制成的抛光模有较高的硬度，能够有效保证精密元件的面形平整；但如果用与精密元件硬度不匹配的沥青抛光模，就会在精密元件表面产生大量的抛光擦痕，严重影响精密元件的光洁度等加工质量。另外，现在有抛光玻璃用的抛光模的结合剂是聚氨酯，用聚氨酯加入固体磨料粉(常用氧化铈、氧化锆)制成复合抛光模材料，但聚氨酯加入固体磨料粉的复合抛光模材料只适合高硬度材料如玻璃等的高速抛光用，而要对材质较软的精密元件，聚氨酯加入固体磨料粉的复合抛光模材料制成的抛光模达不到高精度要求。

精密元件经过抛光后，表面会残留有机物、抛光粉微粒等污染物，不但对精密元件表面产生腐蚀，而且会成为精密元件损伤的诱发源和短板，因此，对抛光后的精密元件进行高洁净度清洗是非常必要的。精密元件的清洗方法有传统的擦拭法、半导体工业的RCA清洗法、超声波清洗法、激光清洗法、等离子体弧清洗法等。传统的擦拭法能够较有效的去除微米以上的大尺度颗粒，但是难于去除亚微米尺度的颗粒，而且由于擦拭人员的技术水平和熟练程度不一致，在擦拭大面积的精密元件或者需要大批量生产时候，效率很低；RCA清洗属于化学清洗，利用不同的化学溶剂能够降低颗粒与精密元件表面之间的吸附力，但是如果控制不当化学溶液的浓度则会引起精密元件表面的严重腐蚀，造成表面粗糙度的增加；超声波清洗属于物理清洗方法，通过选择合适的超声波频率可以高效去除基板表面从微米到亚微米各种尺度的颗粒，然而当超声频率和功率选择不当或者超声时间过长，则会造成精密元件表面的物理损伤。所以对于精密元件清洗工艺的选择，不仅要关注污染物的清洗效率，还要避免清洗过程中对精密元件造成的破坏。

发明内容

本发明的目的在于提供一种精密元件的抛光、清洗工艺，以解决现有技术中的问题。

为实现上述目的，本发明提供如下技术方案：

一种精密元件的抛光、清洗工艺，该抛光、清洗工艺包括以下步骤：

(1)抛光：将待抛光的精密元件压在抛光模上进行抛光；

(2)清洗：

(A)清洗液中浸泡，去离子水冲洗；

(B)乙醇超声清洗；

(C)去离子水高压喷淋清洗；

(D)干燥，得精密元件。

作为优化，一种精密元件的抛光、清洗工艺，该抛光、清洗工艺包括以下步骤：

(1)抛光：将抛光模固定在磨床主轴上，在抛光模的表面上倒入抛光液，将待抛光的精密元件压在抛光模上，开启磨床，进行抛光；

(2)清洗：

(A)将步骤(1)所得的精密元件放入清洗液中浸泡，然后用去离子水冲洗；

(B)将步骤(A)所得的精密元件置于乙醇中进行超声清洗；

(C)将步骤(B)所得的精密元件用去离子水进行高压喷淋清洗；