[发明专利]一种精密元件的高效成型工艺

说明书

本发明公开了一种精密元件的高效成型工艺，该成型工艺包括以下步骤：粗车削；对刀与中心偏差补偿；启动程序，空挡提速；半精车削；精车削；抛光；清洗；干燥；对棒料进行粗车，提高效率，再对棒料进行半精车和精车，保证工件的精度，通过精准的对刀方法，保证了工件的高精度成型；采用化学刻蚀抛光法进行抛光，提高了效率，降低了成本；采用多频率加温超声清洗工艺，使工件表面具有很好的洁净度；红外线干燥的方法具有干燥速度快等优点，本发明实现了精密元件的整体加工，大幅提高了加工效率，精密元件表面粗糙度达到Ra0.01，满足了设计与使用要求，且具有很好的一致性，该精密元件在本工序中的合格率达到100％。

技术领域

本发明涉及精密元件的加工领域，具体是一种精密元件的高效成型工艺。

背景技术

通过车削加工精密元件时，车加工所采用的材料为实棒，加工前的重量是加工后成品重量的3倍，材料浪费严重，并且批量生产加工精度不稳定，车加工所产生的毛刺是困扰整个行业的难题，耗时费力，精密元件经过切割、研磨和预抛光后，进入到精密抛光阶段，不同于高速抛光过程中单个元件加工，精密元件表面通常采用成盘拼装、低速抛光的方式，通过筛选更精细的抛光粉、采用特殊的抛光元件，优化抛光压力、抛光速度和抛光时间的参数，研制控制材料的去除，获得低表面粗糙度、低表面损伤、低亚表面损伤的精密元件。

为了提高精密元件的加工效率，精密元件往往采用拼盘加工的方式，其方法是利用有机粘结剂，如石蜡、火漆胶等，将圆形元件粘结在光胶板模具上，形成一个整体拼盘加工，但此种方法也导致在元件抛光完成下盘后，在零件上留下大量粘结剂，同时，为了获得低表面粗糙度和低亚表面损伤，抛光时间一般比较长，这就导致表面附着并且呈干结状的抛光粉微粒，为元件的清洗带来极大困难。

精密元件清洗方法有传统的擦拭法、半导体工业的RCA清洗法、超声波清洗法、激光清洗法、等离子体弧清洗法等。传统的擦拭法能够较有效的去除微米以上的大尺度颗粒，但是难于去除亚微米尺度的颗粒，而且由于擦拭人员的技术水平和熟练程度不一致，在擦拭大面积的精密元件或者需要大批量生产时候，效率很低；RCA清洗属于化学清洗，利用不同的化学溶剂能够降低颗粒与元件表面之间的吸附力，但是如果控制不当化学溶液的浓度则会引起精密元件表面的严重腐蚀，造成表面粗糙度的增加；超声波清洗属于物理清洗方法，通过选择合适的超声波频率可以高效去除基板表面从微米到亚微米各种尺度的颗粒，然而当超声频率和功率选择不当或者超声时间过长，则会造成元件表面的物理损伤。所以对于精密元件清洗工艺的选择，不仅要关注污染物的清洗效率，还要避免清洗过程中对精密元件造成的破坏。

目前精密元件的加工工序多，精度不高，生产过程检验较困难，对操作人员技能要求较高，无法有效保证产品品质，报废率较高，不适合大批量生产，无法满足市场需求。

发明内容

本发明的目的在于提供一种精密元件的高效成型工艺，以解决现有技术中的问题。

为实现上述目的，本发明提供如下技术方案：

一种精密元件的高效成型工艺，该成型工艺包括以下步骤：

(1)粗车削；

(2)对刀与中心偏差补偿；

(3)启动程序，空挡提速；

(4)半精车削；

(5)精车削；

(6)抛光；

(7)清洗；

(8)干燥。

作为优化，一种精密元件的高效成型工艺，该成型工艺包括以下步骤：

(1)粗车削：在一般数控车床上，采用粗车刀对棒料进行粗车削；