[发明专利]一种基于最小二乘法的PECVD色差改善方法

权利要求书

1.一种基于最小二乘法的PECVD色差改善方法，其特征在于：安装如下的步骤进行

步骤一、测量石墨舟每次使用过程中每隔q次循环使用时每批硅片的平均膜厚，一个石墨舟从开始启用测量到去清洗机清洗是该石墨舟完整一次循环，这样石墨舟要使用s次循环，石墨舟使用过程中测量的批次分别为p，p+q，p+2q，p+3q，…p+(m-1)q，m为每次石墨舟使用过程中硅片的批次总数，即石墨舟完整一次循环中，要测量m个批次，p为第一次测试时石墨舟的使用次数，其中p,q设为小于10的自然数；

步骤二、求取石墨舟s次循环测量过程中每批次膜厚的平均值m为每次石墨舟使用过程中硅片的批次总数，d_mi为每批次中第i次循环测量时的膜厚，i为第i次循环测量，s为循环测量总次数；

步骤三、利用最小二乘法将每批次膜厚的平均值与每次石墨舟使用过程中硅片的批次拟合，求出归一化批次数u_i与膜厚平均值的拟合函数其中a₀，a₁，a₂，a₃，…a_k为该拟合函数的系数，k∈自然数，n∈自然数；

步骤四、根据目标膜厚与拟合函数Φ(u_i)差值推导出修正沉积时间的函数Ψ(u_i)＝8[δ-Φ(u_i)]，其中，δ为目标膜厚；

步骤五、在当前的沉积时间G^′上补充上修正沉积时间，得到色差改善沉积时间G＝G^′+Ψ(u_i)，按照色差改善沉积时间G进行沉积。