[发明专利]一种基于最小二乘法的PECVD色差改善方法

说明书

本发明涉及太阳能电池片生成领域，特别涉及太阳能电池片管式PECVD工艺领域。一种基于最小二乘法的PECVD色差改善方法，步骤一、测量石墨舟使用过程中每隔q次循环使用时每批硅片的平均膜厚；求取s次循环测量过程中每批次膜厚的平均值=，m为每次石墨舟使用过程中硅片的批次总数，i为第i次循环测量，s为循环测量总次数；利用最小二乘法将每批次膜厚的平均值与每次石墨舟使用过程中硅片的批次拟合，求出拟合函数Φ(usubgt;𝑖/subgt;)；根据目标膜厚与拟合函数Φ(usubgt;𝑖/subgt;)差值推导出修正沉积时间的函数；在当前的沉积时间上补充上修正沉积时间，得到色差改善沉积时间G=+，按照色差改善沉积时间G进行沉积。

技术领域

本发明涉及太阳能电池片生成领域，特别涉及太阳能电池片管式PECVD工艺领域。

背景技术

太阳能电池镀膜技术已经十分成熟，对但硅片的外观颜色均匀性色差问题一直困扰着PECVD工艺生产。影响镀膜均匀问题的因素有很多，其中由石墨舟的使用次数增加，而造成沉积在石墨舟表面的氮化硅膜也在增加而产生均匀性下降的色差问题是影响镀膜均匀性重要因素之一。对于这种因素主要采用的方法是限定石墨舟使用次数并进行及时清洗，但即便这样在正常使用次数范围内因石墨舟表面氮化硅膜在不断增加，使得石墨舟表面电场改变，依然会造成色差问题。

发明内容

本发明所要解决的技术问题是：如何减少因为石墨舟表面的氮化硅膜增加，从而造成均匀性下降的色差问题。

本发明所采用的技术方案是：一种基于最小二乘法的PECVD色差改善方法，安装如下的步骤进行

步骤一、测量石墨舟使用过程中每隔q次循环使用时每批硅片的平均膜厚；

步骤二、求取s次循环测量过程中每批次膜厚的平均值m为每次石墨舟使用过程中硅片的批次总数，i为第i次循环测量，s为循环测量总次数；

步骤三、利用最小二乘法将每批次膜厚的平均值与每次石墨舟使用过程中硅片的批次拟合，求出拟合函数Φ(u_i)；

步骤四、根据目标膜厚与拟合函数Φ(u_i)差值推导出修正沉积时间的函数Ψ(u_i)；

步骤五、在当前的沉积时间G′上补充上修正沉积时间，得到色差改善沉积时间G＝G′+Ψ(u_i)，按照色差改善沉积时间G进行沉积。

本发明的有益效果是：利用最小二乘法拟合一个摒弃了传统的多个分段函数人为分段的节点的镀膜时间随石墨舟的使用次数变化的函数。提高了石墨舟的使用次数与镀膜时间之间的精度，优化了镀膜补镀时间，大大改善镀膜色差，便于工业生产推广。

附图说明

图1为膜厚随石墨舟使用次数变化关系图；

图2为修正沉积时间的函数Ψ(u_i)图。

具体实施方式

如图1所示，因为石墨舟有一定的使用寿命，到了一定的寿命必须退去清洗机清洗。为此本发明统计了若干次石墨舟的使用次数下所对应的硅片膜厚的数据，并试图用这些数据对石墨舟任意使用次数下的硅片膜厚进行预测。

一种基于最小二乘法的PECVD色差改善方法，包括以下步骤：

步骤一、石墨舟使用次数每相隔q次对每批硅片测量一次膜厚，一个石墨舟从刚开始启用测量到即去清洗机清洗是该石墨舟完整一次循环，这样石墨舟要使用s次循环(s越大越好)，石墨舟使用过程中测量的批次分别为p，p+q，p+2q，p+3q，…p+(m-1)q，m为每次石墨舟使用过程中硅片的批次总数，即石墨舟完整一次循环中，要测量m个批次，其中P，q设为小于10的自然数(p，q越小越准确)。