[发明专利]导电膜均匀性检测装置、系统以及方法

权利要求书

1.一种导电膜均匀性检测装置，其特征在于，包括：

多个测试头，多个所述测试头间隔设置，每一个所述测试头均被配置为用于接触在导电膜上；

测试装置，每一个所述测试头均电连接于所述测试装置，所述测试装置被配置为用于检测位于每相邻的两个所述测试头之间的所述导电膜的电性能参数；以及

数据收集分析装置，电连接于所述测试装置，用于根据所述测试装置测得的所述电性能参数判断所述导电膜的电阻均匀性。

2.如权利要求1所述的导电膜均匀性检测装置，其特征在于，

多个所述测试头排列成至少一排，每一排相邻的两个所述测试头之间等距离设置；

当多个所述测试头排列成多排时，每相邻的两排所述测试头插空设置。

3.如权利要求2所述的导电膜均匀性检测装置，其特征在于，

每一个所述测试头均连接有导杆，每一个所述导杆均电连接于所述测试装置。

4.如权利要求2所述的导电膜均匀性检测装置，其特征在于，

所述导电膜均匀性检测装置还包括固定支架，每一个所述测试头均连接于所述固定支架。

5.如权利要求1-4任一项所述的导电膜均匀性检测装置，其特征在于，

所述测试头由导电材料制成。

6.一种导电膜均匀性测试系统，其特征在于，包括：

输送装置，用于输送导电膜；以及

如权利要求1-5任一项所述的导电膜均匀性检测装置；所述导电膜均匀性检测装置用于在所述导电膜输送的过程中对所述导电膜进行检测。

7.如权利要求6所述的导电膜均匀性测试系统，其特征在于，

所述导电膜均匀性测试系统还包括标记装置，所述标记装置电连接于所述数据收集分析装置；所述标记装置用于对所述导电膜均匀性检测装置检测到的所述导电膜的不合格区域进行标示。

8.一种导电膜均匀性检测方法，其特征在于，所述方法包括：

将多个测试头间隔接触在导电膜上，测试装置检测位于每相邻的两个所述测试头之间的所述导电膜的电性能参数并输送至数据收集分析装置，所述数据收集分析装置接收所述电性能参数并判断所述导电膜的电阻均匀性。

9.如权利要求8所述的导电膜均匀性检测方法，其特征在于，

判断所述导电膜的电阻均匀性是将检测到的多个所述电性能参数的差值的最大值与多个所述电性能参数的平均值二者的比值与预设比值进行对比；

当所述比值在所述预设比值范围以外时，所述导电膜的电阻均匀性为不合格。

10.如权利要求8所述的导电膜均匀性检测方法，其特征在于，

多个所述测试头在所述导电膜传输的过程中进行检测；或者

多个所述测试头连续通过所述导电膜的各个区域进行检测；或者

多个所述测试头与所述导电膜以不同的速度同时运动，连续检测。