[发明专利]一种氟化钙单晶的制备方法在审

专利信息
申请号: 201811633782.7 申请日: 2018-12-29
公开(公告)号: CN111379023A 公开(公告)日: 2020-07-07
发明(设计)人: 徐超;刘晓阳;张钦辉 申请(专利权)人: 北京首量科技股份有限公司
主分类号: C30B29/12 分类号: C30B29/12;C30B11/00
代理公司: 北京智晨知识产权代理有限公司 11584 代理人: 张婧
地址: 101102 北京市通州区中关村*** 国省代码: 北京;11
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摘要:
搜索关键词: 一种 氟化钙 制备 方法
【说明书】:

发明实施方式公开了一种氟化钙单晶的制备方法,采用双加热器温度梯度炉进行制备,包括以下步骤:再对高温区加热器和低温区加热器同时以30~50℃/小时升温;下降石墨坩埚,待石墨坩埚下降结束后,恒温保持2小时,开始降温,待高温区加热器的温度降至与低温区加热器温度相同后,再对高温区加热器和低温区加热器同时降温,待温度冷却到室温后,得到氟化钙单晶。与现有技术相比,本发明实施方式通过调节高温区加热器和低温区加热器的温度,获得适合氟化钙单晶生长的梯度区,从而精确控制籽晶熔接及单晶生长,抑制不同取向晶核的结晶速率,从而实现大幅提高单晶的成品率,有效降低生产成本的目的。

技术领域

本发明涉及晶体生长领域,特别涉及一种氟化钙单晶的制备方法。

背景技术

氟化钙(CaF2)是一种非常重要的光功能晶体,具有良好的光学性能、机械性能和物化稳定性,可以用做光学晶体、激光晶体和无机闪烁晶体。现有技术中,氟化钙单晶通常采用单回路控温的坩埚下降法或温梯法生长,即氟化钙单晶通常采用单加热器的单温区生长方式,单晶炉内温度梯度不可控,难以调节获得所需的温度梯度,由于氟化钙单晶属于立方晶系,极易结晶,通常会在坩埚壁上形成多个晶核,各个晶核结晶速率和晶向不同,极易导致生成氟化钙多晶。而紫外透镜、紫外窗口等领域对氟化钙的透过率要求较高,氟化钙多晶无法使用。

发明内容

本发明实施方式的目的在于提供一种氟化钙单晶的制备方法,可大幅提高单晶的成品率,有效降低生产成本。

为解决上述技术问题,本发明的实施方式提供了一种氟化钙单晶的制备方法,采用双加热器温度梯度炉进行制备,包括以下步骤:

将籽晶放置在石墨坩埚底部的籽晶阱内,然后将氟化钙原料和除氧剂混合均匀后装入石墨坩埚内,盖上石墨盖,安装保温筒及保温盖;

抽真空,使炉体内部真空度不小于10-3Pa,对高温区加热器和低温区加热器同时以30~50℃/小时升温至300℃,恒温保持四小时以上;

再对高温区加热器和低温区加热器同时以30~50℃/小时升温;

下降石墨坩埚,待石墨坩埚下降结束后,恒温保持2小时,开始降温,待高温区加热器的温度降至与低温区加热器温度相同后,再对高温区加热器和低温区加热器同时降温,待温度冷却到室温后,得到氟化钙单晶。

本发明实施方式相对于现有技术而言,通过调节高温区加热器和低温区加热器的温度,获得适合氟化钙单晶生长的梯度区,从而精确控制籽晶熔接及单晶生长,抑制不同取向晶核的结晶速率,从而实现大幅提高单晶的成品率,有效降低生产成本的目的。

另外,下降石墨坩埚的步骤包括:

首先以2.0~3.0mm/hr的速度,石墨坩埚下降50~80mm;

其次以1.0~2.0mm/hr的速度,石墨坩埚下降100~150mm。

另外,再对高温区加热器和低温区加热器同时以30~50℃/小时升温的步骤包括:低温区加热器升至温度1380℃,保持温度恒定;高温区加热器升至1440℃,恒温保持;当高温区加热器和低温区加热器温度均达到恒定后,恒温化料3小时以上。

另外,开始降温的步骤包括:高温区加热器以3~5℃/hr的速率降温60℃,低温区加热器保持温度恒定。

另外,再对高温区加热器和低温区加热器同时降温的步骤包括:降温速率为20~30℃/hr,降至150℃。

另外,籽晶的晶向选自100、111、110。

另外,氟化钙原料的重量为10~15kg,纯度99.99%,除氧剂的质量分数为0.3wt%。

另外,除氧剂选自聚四氟乙烯、碳化硅。

附图说明

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