[发明专利]量子点发光二极管的后处理方法

权利要求书

1.一种量子点发光二极管的后处理方法，其特征在于，包括以下步骤：

提供量子点发光二极管，所述量子点发光二极管包括阳极、阴极以及设置在所述阳极和阴极的功能层，所述功能层至少包括量子点发光层；

在所述量子点发光二极管中功能层的材料未完全固化之前，将所述量子点发光二极管浸入有机溶剂中进行超声处理，所述有机溶剂为不溶解量子点的有机溶剂。

2.如权利要求1所述的量子点发光二极管的后处理方法，其特征在于，所述有机溶剂选自直链中的碳原子数目小于20的醇类、直链中的碳原子数目小于20的硫醇、直链中的碳原子数目小于20的烯烃、直链中的碳原子数目小于10的醇类衍生物中的一种或两种以上的组合。

3.如权利要求2所述的量子点发光二极管的后处理方法，其特征在于，所述直链中的碳原子数目小于20的醇类选自1-丙醇、1-丁醇、1-戊醇、2-戊醇、1,5-戊二醇和2,3-丁二醇中的一种或多种；

所述直链中的碳原子数目小于20的硫醇选自丁硫醇、戊硫醇、庚硫醇、辛硫醇和十八硫醇中的一种或多种；

所述直链中的碳原子数目小于20的烯烃选自己烯、4-辛烯、5-癸烯、5-甲基-5-癸烯和十八烯中的一种或多种；

所述直链中的碳原子数目小于10的醇类衍生物选自甲氧基乙醇、乙氧基乙醇、苯氧基乙醇和1-甲氧基-1，2-丙二醇中的一种或多种。

4.如权利要求1至3任一项所述的量子点发光二极管的后处理方法，其特征在于，将所述量子点发光二极管浸入有机溶剂中进行超声处理的步骤中，所述超声处理的频率为20kHz-10⁹kHz。

5.如权利要求4所述的量子点发光二极管的后处理方法，其特征在于，将所述量子点发光二极管浸入有机溶剂中进行超声处理的步骤中，所述超声处理的频率为30kHz-100kHz。

6.如权利要求1至3任一项所述的量子点发光二极管的后处理方法，其特征在于，将所述量子点发光二极管浸入有机溶剂中进行超声处理的步骤中，所述超声处理的功率密度为0.3-200w/cm²。

7.如权利要求1至3任一项所述的量子点发光二极管的后处理方法，其特征在于，将所述量子点发光二极管浸入有机溶剂中进行超声处理的步骤中，所述超声处理的时间为20分钟-200分钟。

8.如权利要求7所述的量子点发光二极管的后处理方法，其特征在于，将所述量子点发光二极管浸入有机溶剂中进行超声处理的步骤中，所述超声处理的时间为20分钟-60分钟。

9.如权利要求1至3任一项所述的量子点发光二极管的后处理方法，其特征在于，提供新制备的量子点发光二极管，在所述量子点发光二极管制备完成后的28小时内，所述量子点发光二极管浸入有机溶剂中进行超声处理。

10.如权利要求1至3任一项所述的量子点发光二极管的后处理方法，其特征在于，所述量子点发光二极管的功能层是通过溶液法制备得到的。