[发明专利]修正方法、装置和存储介质有效
申请号: | 201811640447.X | 申请日: | 2018-12-29 |
公开(公告)号: | CN109541868B | 公开(公告)日: | 2022-04-26 |
发明(设计)人: | 杨曦 | 申请(专利权)人: | 成都中电熊猫显示科技有限公司 |
主分类号: | G02F1/1362 | 分类号: | G02F1/1362 |
代理公司: | 北京同立钧成知识产权代理有限公司 11205 | 代理人: | 荣甜甜;刘芳 |
地址: | 610200 四川省成*** | 国省代码: | 四川;51 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 修正 方法 装置 存储 介质 | ||
本发明提供一种修正方法、装置和存储介质,该方法包括:获取缺陷所在的第一像素区域的位置信息,缺陷是由存储电容线,以及与第一像素区域中的像素电极连接的第二金属层中的信号线之间的压差产生的,存储电容线与第一像素区域中的像素电极形成存储电容;根据位置信息,控制激光熔接器,对第一像素区域的存在压差的两个信号线进行熔接。本发明中,对阵列基板中存储电容线以及与像素电极连接的第二金属层中的信号线之间的压差产生的缺陷,进行信号线的熔接,使得存在压差的两个信号线之间保持电压一致,进而对缺陷进行修正。
技术领域
本发明涉及基板缺陷修正技术领域,尤其涉及一种修正方法、装置和存储介质。
背景技术
液晶显示器(Liquid Crystal Display,LCD)具有体积小、功耗低、无辐射等特点,现己占据了平面显示领域的主导地位。液晶显示器的主体结构包括成盒在一起并将液晶夹设其间的阵列基板和彩膜基板,阵列基板上形成有提供扫描信号的栅极线、源极线以及形成像素点的像素电极。液晶显示器的制备过程主要包括制备阵列基板和彩膜基板的阵列工艺、将阵列基板和彩膜基板对盒并注入液晶的成盒工艺以及后续的模组工艺,在上述制备工艺中,液晶显示器的像素点不良是常制备工艺中不可避免出现的缺陷。
现有技术中,若阵列基板中的栅极线所在的金属层和公共电极线所在的金属层之间设置有绝缘层,则当栅极线所在的金属层和公共电极线所在的金属层之间存在电压差时,会造成两层金属层的电势差不为0,进而造成阵列基板中原应显示为暗点的像素块呈现为亮点,导致液晶显示器的像素点不良。
发明内容
本发明提供一种修正方法、装置和存储介质,对阵列基板中由于存储电容线,以及与像素电极连接的信号线之间的压差产生的缺陷,进行信号线的熔接,使得存在压差的两个信号线之间保持电压一致,进而对缺陷进行修正。
本发明的第一方面提供一种修正方法,所述阵列基板包括像素层、第一金属层和第二金属层,所述像素层包括多个像素区域,每个所述像素区域包括一个像素电极,每个所述像素电极与所述第二金属层中的信号线连接,所述第一金属层中包括存储电容线,所述修正方法包括:
获取缺陷所在的第一像素区域的位置信息,所述缺陷是由所述存储电容线,以及与所述第一像素区域中的像素电极连接的所述第二金属层中的信号线之间的压差产生的,所述存储电容线与所述第一像素区域中的像素电极形成存储电容;
根据所述位置信息,控制激光熔接器,对所述第一像素区域的存在压差的两个信号线进行熔接。
可选的,所述第一金属层和所述第二金属层之间存在绝缘层,每个像素区域在绝缘层上预留有通孔;所述位置信息包括所述第一像素区域在所述阵列基板上的坐标和所述第一像素区域的通孔在所述阵列基板上的坐标;
所述根据所述位置信息,控制激光熔接器,对所述第一像素区域的存在压差的两个信号线进行熔接,包括:
根据所述第一像素区域在所述阵列基板上的坐标,在所述阵列基板上确定所述第一像素区域;
在所述第一像素区域的通孔在所述阵列基板上的坐标处,对所述第一像素区域的存在压差的两个信号线进行熔接。
可选的,所述第一像素区域的通孔在所述阵列基板上的坐标包括:所述第一像素区域的通孔在所述阵列基板上的中心位置的坐标;
所述对所述第一像素区域的存在压差的两个信号线进行熔接,包括:
在所述第一像素区域的通孔在所述阵列基板上的中心位置的坐标处,对所述第一像素区域的存在压差的两个信号线进行熔接。
可选的,在重力方向上,所述第二金属层位于所述第一金属层的上方,所述对所述第一像素区域的存在压差的两个信号线进行熔接之前,还包括:
根据所述中心位置的坐标,在所述第二金属层上确定熔接点;
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