[发明专利]预对准系统、预对准方法及光刻设备

权利要求书

1.一种预对准系统，其特征在于，包括：中央处理模块、运动控制模块以及预对准模块；所述预对准模块用于侦测硅片的位置信息及编码信息；所述中央处理模块用于根据所述硅片的位置信息发出运动指令，所述运动控制模块根据所述运动指令控制所述预对准模块运动，所述预对准模块还用于在所述运动控制模块的控制下运动以进行硅片的预对准；所述中央处理模块还用于根据所述硅片的编码信息进行所述硅片的编码识别；

所述预对准模块包括图像采集模块，所述图像采集模块用于在所述运动控制模块下旋转所述硅片时查找所述硅片的编码的开始角度和结束角度；

所述运动控制模块根据所述开始角度和所述结束角度，控制所述硅片来回旋转；

所述图像采集模块还用于在所述硅片来回旋转时进行图像采集，并传给所述中央处理模块，所述中央处理模块还用于对采集到的所述图像进行处理，以获取硅片的编码信息。

2.如权利要求1所述的预对准系统，其特征在于，所述预对准模块包括：旋转台、定心台以及光学侦测元件；

所述旋转台用于调整所述硅片的角度以及所述硅片的垂向位置，通过所述硅片的垂向位置调整可允许所述硅片在所述旋转台和所述定心台之间交接；

所述定心台用于调整所述硅片的水平向位置；

所述光学侦测元件用于侦测所述硅片的位置信息及片的编码信息。

3.如权利要求2所述的预对准系统，其特征在于，所述运动控制模块包括：运动控制卡、多个电机及为多个所述电机配备的多个伺服放大器；

所述中央处理模块通过所述运动控制卡控制多个所述伺服放大器从而控制多个所述电机。

4.如权利要求3所述的预对准系统，其特征在于，多个所述电机包括第一电机、第二电机、第三电机及第四电机，多个所述伺服放大器包括与所述第一电机连接的第一伺服放大器、与所述第二电机连接的第二伺服放大器、与所述第三电机连接的第三伺服放大器及与所述第四电机连接的第四伺服放大器；

其中，所述第一电机用于控制所述定心台的水平向位置；所述第二电机用于控制所述旋转台的水平向旋转角度；所述第三电机用于控制所述旋转台的垂向位置；所述第四电机用于控制所述光学侦测元件的水平向位置。

5.如权利要求3所述的预对准系统，其特征在于，所述中央处理模块和所述运动控制卡通过第一数据传输接口进行信息交互，所述运动控制卡通过局域网控制多个所述伺服放大器。

6.如权利要求2所述的预对准系统，其特征在于，所述图像采集模块用于采集所述光学侦测元件侦测的信息并传给所述中央处理模块。

7.如权利要求6所述的预对准系统，其特征在于，所述图像采集模块包括图像采集卡。

8.如权利要求6所述的预对准系统，其特征在于，所述中央处理模块和所述图像采集模块通过第二数据传输接口进行信息交互，所述图像采集模块通过图像传输网控制所述光学侦测元件。

9.如权利要求2所述的预对准系统，其特征在于，所述光学侦测元件为线面切换式光学侦测元件。

10.如权利要求9所述的预对准系统，其特征在于，所述光学侦测元件包括电荷耦合器件。

11.如权利要求1所述的预对准系统，其特征在于，所述中央处理模块包括中央处理器。

12.一种光刻设备，其特征在于，包括如权利要求1-11中任一项所述的预对准系统。