[发明专利]一种扫描式基片表面检测方法和装置

说明书

本发明提供一种扫描式基片表面检测方法和装置，利用液滴在基片表面的运动检测基片的均匀性，方法设备简单，不对基片表面造成损伤，适合于核心区域的定点检测以及常规检测。在检测的过程中，基片倾斜一定的角度，液滴在基片的表面并不主动滑落，用牵引装置牵引液滴运动。运动的过程中，经过需要检测的区域，通过液滴的形态变化判断基片表面的均匀性。

技术领域

本发明涉及一种扫描式基片表面检测的方法和装置，利用液滴检测生物、化学等领域用基片表面的均匀性，属于生物化学领域。

背景技术

生物化学等领域中大量利用到各种基片。本发明所述的基片主要指的是化学或者生物等领域常见的带有表面结构、表面化学修饰，或者未经化学修饰的基片。常见的基片比如载玻片、生物化学芯片、半导体工艺具有均匀阵列的片子，疏水化学修饰片子，特殊化学修饰玻璃片等。

基片的表面常见的各种化学或者物理修饰都存在稳定性的问题。例如，生物芯片中点样的均匀性，半导体芯片中表面蚀刻的均匀性，化学修饰的基片的表面均匀性。基片的稳定性有多种检测方法。比如，比较大的物理缺陷可以用投影等方法检测，比较大的化学修饰缺陷的检测可以用荧光等化学修饰手段进行检测。不同的检测方法会适用于不同的情况。本发明提供一种简单的检测装置和方法，利用液滴在基片表面的运动检测基片的均匀性，方法简单，不对基片表面造成损伤，适合于核心区域的定点检测以及常规检测。

发明内容

本发明提供一种扫描式基片表面检测方法,其特征在于,基片倾斜，在基片的表面加第一液体液滴；将牵引装置和第一液体接触，以牵引装置引导第一液体运动；通过第一液体液滴运动的状态检测基片表面的均匀性；其中，所述第一液体液滴在重力的作用下不主动滑落；所述第一液体液滴在牵引装置的作用下运动。

本发明提供一种扫描式基片表面检测方法，包括以下步骤，将基片倾斜；将牵引装置靠近基片；通过牵引装置头部的加液孔向基片表面加第一液体液滴；以牵引装置引导第一液体运动；通过第一液体液滴运动的状态检测基片表面的均匀性；其中，所述第一液体液滴在重力的作用下不主动滑落；所述第一液体液滴在牵引装置的作用下运动。

根据优选的实施方式，所述基片倾斜指的是基片表面与水平面呈30-90度夹角。

根据优选的实施方式，所述基片倾斜指的是基片表面与水平面呈90-135度夹角。

根据优选的实施方式，所述基片表面疏水化学修饰。

根据优选的实施方式，所述第一液体为水。

根据优选的实施方式，所述第一液体为含水的液体。

根据优选的实施方式，所述牵引装置为注射针头、点胶枪头、移液器枪头或者其它具有尖锐头部的物品。

根据优选的实施方式,所述牵引装置与第一液体接触部分亲水性修饰.

根据优选的实施方式，所述第一液体液滴的量为0.005-0.1mL；优选0.005-0.05mL；更优选0.01-0.04mL；更优选0.03mL。

根据优选的实施方式,所述牵引装置不接触基片的表面。

根据优选的实施方式，所说第一液体液滴的体积根据表面的亲疏水情况确定。一般的基片需要倾斜一定的角度，例如30度或者45度或者60度或者90度。当表面修饰有氟代硅烷的基片倾斜90度的时候，在表面加约0.01ml纯水；在表面张力的作用下，水滴并不会直接滑落基片表面；用注射器针头或者移液器枪头作为牵引装置，水滴可以沿着牵引的方向运动。这种运动是重力和牵引力共同作用的结果，所以整体是向下运动的。当牵引装置向上运动的时候，水滴会脱离牵引装置。当水滴经过修饰不均匀的表面的时候，例如疏水修饰的表面有个1mm左右的缺陷，水滴会有明显的残留现象导致水滴变小，或者整个水滴不能继续运动。