[发明专利]一种光刻投影物镜及光刻机有效
申请号: | 201811648523.1 | 申请日: | 2018-12-30 |
公开(公告)号: | CN109375480B | 公开(公告)日: | 2020-08-07 |
发明(设计)人: | 张羽;安福平 | 申请(专利权)人: | 上海微电子装备(集团)股份有限公司 |
主分类号: | G03F7/20 | 分类号: | G03F7/20;G02B13/00 |
代理公司: | 北京品源专利代理有限公司 11332 | 代理人: | 孟金喆 |
地址: | 201203 上海市浦*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 光刻 投影 物镜 | ||
1.一种光刻投影物镜,其特征在于,所述光刻投影物镜包括沿光轴顺次排列的第一透镜组、第二透镜组、第三透镜组、光阑、第四透镜组、第五透镜组和第六透镜组,所述第一透镜组与所述第六透镜组关于所述光阑对称,所述第二透镜组与所述第五透镜组关于所述光阑对称;所述第三透镜组和所述第四透镜组关于所述光阑对称;
其中,f1为所述第一透镜组以及所述第六透镜组的焦距,f2为所述第二透镜组以及所述第五透镜组的焦距,f3为所述第三透镜组以及所述第四透镜组的焦距;
所述光刻投影物镜在i线波段、h线波段和g线波段光照下的最大像方数值孔径为0.14。
2.根据权利要求1所述的光刻投影物镜,其特征在于,所述第一透镜组以及所述第六透镜组具有正的光焦度,所述第二透镜组以及所述第五透镜组具有负的光焦度,所述第三透镜组以及所述第四透镜组具有正的光焦度。
3.根据权利要求1所述的光刻投影物镜,其特征在于,所述第一透镜组、所述第二透镜组、所述第三透镜组、所述第四透镜组、所述第五透镜组和所述第六透镜组中的所有的透镜均为球面透镜。
4.根据权利要求1所述的光刻投影物镜,其特征在于,所述第一透镜组、所述第二透镜组、所述第三透镜组、所述第四透镜组、所述第五透镜组和所述第六透镜组均包括至少一个弯月透镜。
5.根据权利要求1所述的光刻投影物镜,其特征在于,所述第一透镜组包括4个透镜,所述第二透镜组包括2个透镜;所述第三透镜组包括4个透镜;
所述第四透镜组包括4个透镜;所述第五透镜组包括2个透镜;所述第六透镜组包括4个透镜。
6.根据权利要求5所述的光刻投影物镜,其特征在于,所述第一透镜组包括沿光轴依次排列的第一透镜、第二透镜、第三透镜和第四透镜;所述第一透镜为双凹透镜,所述第二透镜和所述第三透镜均为弯月透镜,所述第四透镜为双凸透镜;
所述第六透镜组包括沿光轴依次排列的第十七透镜、第十八透镜、第十九透镜和第二十透镜;所述第十七透镜为双凸透镜,所述第十八透镜和所述第十九透镜均为弯月透镜,所述第二十透镜为双凹透镜。
7.根据权利要求5所述的光刻投影物镜,其特征在于,所述第二透镜组包括沿光轴依次排列的第五透镜和第六透镜;所述第五透镜为弯月透镜,所述第六透镜为双凹透镜;
所述第五透镜组包括沿光轴依次排列的第十五透镜和第十六透镜;所述第十五透镜为双凹透镜,所述第十六透镜为弯月透镜。
8.根据权利要求5所述的光刻投影物镜,其特征在于,所述第三透镜组包括沿光轴依次排列的第七透镜、第八透镜、第九透镜和第十透镜;所述第七透镜为弯月透镜,所述第八透镜和所述第十透镜为双凸透镜,所述第九透镜为双凹透镜;所述第四透镜组包括沿光轴依次排列的第十一透镜、第十二透镜、第十三透镜和第十四透镜;所述第十一透镜和所述第十三透镜为双凸透镜,所述第十二透镜为双凹透镜,所述第十四透镜为弯月透镜。
9.根据权利要求1所述的光刻投影物镜,其特征在于,所述光刻投影物镜在i线波段光照下的最大像方数值孔径为0.18。
10.根据权利要求1所述的光刻投影物镜,其特征在于,所述光刻投影物镜的曝光视场直径为62.934mm。
11.一种光刻机,其特征在于,包括:权利要求1-10任一项所述的光刻投影物镜。
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