[发明专利]一种光刻投影物镜及光刻机

说明书

本发明实施例提供一种光刻投影物镜，所述光刻投影物镜包括沿光轴顺次排列的第一透镜组、第二透镜组、第三透镜组、光阑、第四透镜组、第五透镜组和第六透镜组，所述第一透镜组与所述第六透镜组关于所述光阑对称，所述第二透镜组与所述第五透镜组关于所述光阑对称；所述第三透镜组和所述第四透镜组关于所述光阑对称；其中，f₁为所述第一透镜组以及所述第六透镜组的焦距，f₂为所述第二透镜组以及所述第五透镜组的焦距，f₃为所述第三透镜组以及所述第四透镜组的焦距。本发明实施例提供的一种光刻投影物镜，采用球面透镜设计透镜数量少降低了加工制造成本，增大了数值孔径并且适用于ghi三线波段，扩展了投影物镜的适用场景，提高了光刻机的分辨率。

技术领域

本发明实施例涉及光刻技术，尤其涉及一种光刻投影物镜及光刻机。

背景技术

光学光刻是一种用光将掩模图案投影复制的技术。集成电路就是由投影曝光装置制成的。借助于投影曝光装置，具有不同掩模图案的图形被成像至基底上，如硅片或LCD板，用于制造集成电路、薄膜磁头、液晶显示板，或微机电(MEMS)等一系列结构。过去数十年曝光设备技术水平不断发展，满足了更小线条尺寸，更大曝光面积，更高可靠性及产率，更低成本的需求。

现有的光刻投影物镜存在诸如数值孔径较小、分辨率低、适用波段窄、数值孔径不可变和通常包括非球面透镜加工制造成本高等问题，目前尚没有任何文献或产品公开了能同时解决上述问题的现有技术。

发明内容

本发明实施例提供一种光刻投影物镜及光刻机，以解决上述现有技术中存在的问题。

第一方面，本发明实施例提供一种光刻投影物镜，所述光刻投影物镜包括沿光轴顺次排列的第一透镜组、第二透镜组、第三透镜组、光阑、第四透镜组、第五透镜组和第六透镜组，所述第一透镜组与所述第六透镜组关于所述光阑对称，所述第二透镜组与所述第五透镜组关于所述光阑对称；所述第三透镜组和所述第四透镜组关于所述光阑对称；

其中，f₁为所述第一透镜组以及所述第六透镜组的焦距，f₂为所述第二透镜组以及所述第五透镜组的焦距，f₃为所述第三透镜组以及所述第四透镜组的焦距。

可选地，所述第一透镜组以及所述第六透镜组具有正的光焦度，所述第二透镜组以及所述第五透镜组具有负的光焦度，所述第三透镜组以及所述第四透镜组具有正的光焦度。

可选地，所述第一透镜组、所述第二透镜组、所述第三透镜组、所述第四透镜组、所述第五透镜组和所述第六透镜组中的所有的透镜均为球面透镜。

可选地，所述第一透镜组、所述第二透镜组、所述第三透镜组、所述第四透镜组、所述第五透镜组和所述第六透镜组均包括至少一个弯月透镜。

可选地，所述第一透镜组包括4个透镜，所述第二透镜组包括2个透镜；所述第三透镜组包括4个透镜；

所述第四透镜组包括4个透镜；所述第五透镜组包括2个透镜；所述第六透镜组包括4个透镜。

可选地，所述第一透镜组包括沿光轴依次排列的第一透镜、第二透镜、第三透镜和第四透镜；所述第一透镜为双凹透镜，所述第二透镜和所述第三透镜均为弯月透镜，所述第四透镜为双凸透镜；

所述第六透镜组包括沿光轴依次排列的第十七透镜、第十八透镜、第十九透镜和第二十透镜；所述第十七透镜为双凸透镜，所述第十八透镜和所述第十九透镜均为弯月透镜，所述第二十透镜为双凹透镜。

可选地，所述第二透镜组包括沿光轴依次排列的第五透镜和第六透镜；所述第五透镜为弯月透镜，所述第六透镜为双凹透镜；

所述第五透镜组包括沿光轴依次排列的第十五透镜和第十六透镜；所述第十五透镜为双凹透镜，所述第十六透镜为弯月透镜。