[发明专利]一种苔藓植物外植体的消毒方法

权利要求书

1.一种苔藓植物外植体的消毒方法，其特征在于包括以下步骤：

A、苔藓植物外植体的选取：挑选健壮的、生长旺盛的外植体，将外植体的假根部分切除后，放入流水中冲洗时间为3-8min；

B、将经过步骤A处理过后的外植体放入超声波震荡仪中清洗1-2h；

C、将经过步骤B处理过后的外植体浸泡在浓度为500mg/l的氨苄青霉素钠溶液中，并且在避光条件下恒温浸泡1-2h，所述氨苄青霉素钠溶液的温度为3.5-4.5度；

D、将经过步骤C处理过后的外植体依次经过如下浸泡处理：首先，放入浓度为75%酒精中浸泡5s，利用无菌水清洗5s后接着放入浓度为1%的次氯酸钠溶液中浸泡10s，利用无菌水清洗5s后再放入浓度为75%酒精中浸泡5s，利用无菌水清洗一段时间后再放入浓度为1%的次氯酸钠溶液中浸泡10s，最后再利用无菌水清洗干净备用；

E、将经过步骤D处理过后的外植体放入培养皿中，培养皿底部装有无菌过滤棉，并在培养皿中加入营养液，加入的营养液量将培养皿底部放置的无菌过滤棉完全湿润即可，所述营养液由6-BA、氨苄青霉素钠、knop无机培养液组成，其中6-BA的浓度为0.1mg/L，氨苄青霉素钠的浓度为500mg/L ；

F、将培养皿置于培养箱中培养14-21天至培养基表面形成原丝体和茎叶体，培养箱的温度为23-25度；每天24 小时 中在黑暗中培养的时间为6-10小时，其余时间为光照下培养；

G、剪取培养基表面形成的原丝体和茎叶体，并依次经过如下浸泡处理：首先，放入浓度为75%酒精中浸泡5s，利用无菌水清洗5s后接着放入浓度为1%的次氯酸钠溶液中浸泡10s，利用无菌水清洗5s后再放入浓度为75%酒精中浸泡5s，利用无菌水清洗5s后再放入浓度为1%的次氯酸钠溶液中浸泡5s，最后再利用无菌水清洗干净后即可得到无菌的苔藓外植体。

2.如权利要求1所述的苔藓植物外植体的消毒方法，其特征在于：在步骤A中，将外植体的假根部分切除后放入流水中冲洗时间为5min。

3.如权利要求1所述的苔藓植物外植体的消毒方法，其特征在于：在步骤B中，将外植体放入超声波震荡仪中清洗2h，所述超声波震荡仪的超声波清洗频率为40kHz。

4.如权利要求1所述的苔藓植物外植体的消毒方法，其特征在于：在步骤C中，将外植体浸泡在浓度为500mg/L的氨苄青霉素钠溶液中，并且在避光条件下恒温浸泡1h，所述氨苄青霉素钠溶液的温度为4度。

5.如权利要求1所述的苔藓植物外植体的消毒方法，其特征在于：在步骤E中，所述无菌过滤棉的形状与培养皿底部形状相同，所述无菌过滤棉的厚度为0.5cm。

6.如权利要求1所述的苔藓植物外植体的消毒方法，其特征在于：步骤E中，所述knop无机培养液的溶剂为水，溶质包括Ca(NO₃)₂·4H₂O、KNO₃、KH₂PO₄、MgSO₄·7H₂O、ZnSO4·7(H₂O)，所述Ca(NO₃)₂·4H₂O 的浓度为1g/L，KNO₃的浓度为0.25g/L，KH₂PO₄的浓度为0.25g/L，MgSO₄·7H₂O的浓度为0.25g/L、ZnSO4·7H₂O的浓度为0.003g/L，pH=5.8。

7.如权利要求1所述的苔藓植物外植体的消毒方法，其特征在于：在步骤F中，将培养皿置于培养箱中培养15天，培养箱的温度为23-25度；每天24小时中在黑暗中培养的时间为8小时，其余时间为光照下培养。