[发明专利]一种苔藓植物外植体的消毒方法有效

专利信息
申请号: 201811651293.4 申请日: 2018-12-31
公开(公告)号: CN109588315B 公开(公告)日: 2021-05-28
发明(设计)人: 陈振华;陈仕勇;韦彦妃 申请(专利权)人: 西南民族大学
主分类号: A01H4/00 分类号: A01H4/00
代理公司: 成都点睛专利代理事务所(普通合伙) 51232 代理人: 李玉兴
地址: 610000 四川*** 国省代码: 四川;51
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摘要:
搜索关键词: 一种 苔藓植物 外植体 消毒 方法
【说明书】:

发明公开了一种杀菌效果好、消毒废液不污染环境且对人体无害、毒性小、不易损伤苔藓植物的苔藓植物外植体的消毒方法。该消毒方法通过对苔藓外植体清洗后,接着将外植体依次经过酒精、次氯酸钠、酒精、次氯酸钠浸泡消毒处理,然后利用无菌水清洗干净后放入培养皿中,培养14‑21天至培养基表面形成原丝体和茎叶体,剪取培养基表面形成的原丝体和茎叶体,并依次经过酒精、次氯酸钠、酒精、次氯酸钠浸泡消毒处理,最后再利用无菌水清洗干净后即可得到无菌的苔藓外植体,该消毒方法操作简单、所需外植体量少、操作门槛低、不使用高污染消毒剂、对环境无害,试验效果好。适合在植物组织培养技术领域推广应用。

技术领域

本发明涉及植物组织培养技术领域,尤其是一种苔藓植物外植体的消毒方法。

背景技术

苔藓植物一般生长在较阴暗,较潮湿的土壤、林下、沼泽、岩石及树皮等阴面,通过配子体叶片等微孔吸收大气中的营养物质,同时由于苔藓一般为丛生,植株间紧密生长,因此外植体上附着大量微生物,且不易清除。并且由于苔藓植物外植体大多是单层细胞构成,细胞容易因为消毒过度而死亡,一些稀缺苔藓植物不容易获得孢蒴,苔藓生物量少,采集不易等,这些因素都极大地阻碍了苔藓组织培养的发展,以及对苔藓种质资源的保护和利用。外植体消毒是进行组织培养的第一步,现有的方法,多采用升汞进行消毒,浓度过高易造成外植体死亡,且容易残留,不易清洗消除,消毒效果不太理想,并且升汞是高毒性污染物,对人体伤害大,排出环境易造成土壤重金属残留。

发明内容

本发明所要解决的技术问题是提供一种杀菌效果好、消毒废液不污染环境且对人体无害、毒性小、不易损伤苔藓植物的苔藓植物外植体的消毒方法。

本发明解决其技术问题所采用的技术方案是:该苔藓植物外植体的消毒方法,包括以下步骤:

A、苔藓植物外植体的选取:挑选健壮的、生长旺盛的外植体,将外植体的假根部分切除后,放入流水中冲洗时间为3-8min;

B、将经过步骤A处理过后的外植体放入超声波震荡仪中清洗1-2h;

C、将经过步骤B处理过后的外植体浸泡在浓度为500mg/l的氨苄青霉素钠溶液中,并且在避光条件下恒温浸泡1-2h,所述氨苄青霉素钠溶液的温度为3.5-4.5度;

D、将经过步骤C处理过后的外植体依次经过如下浸泡处理:首先,放入浓度为75%酒精中浸泡一段时间后,利用无菌水清洗一段时间后接着放入浓度为1%的次氯酸钠溶液中浸泡一段时间,利用无菌水清洗一段时间后再放入浓度为75%酒精中浸泡一段时间,利用无菌水清洗一段时间后再放入浓度为1%的次氯酸钠溶液中浸泡一段时间,最后再利用无菌水清洗干净备用;

E、将经过步骤D处理过后的外植体放入培养皿中,培养皿底部装有无菌过滤棉,并在培养皿中加入营养液,加入的营养液量将培养皿底部放置的无菌过滤棉完全湿润即可,所述营养液由6-BA、氨苄青霉素钠、knop无机培养液组成,其中6-BA的浓度为0.1mg/L,氨苄青霉素钠的浓度为500mg/L;

F、将培养皿置于培养箱中培养14-21天至培养基表面形成原丝体和茎叶体,培养箱的温度为23-25度;每天24d中在黑暗中培养的时间为6-10小时,其余时间为光照下培养;

G、剪取培养基表面形成的原丝体和茎叶体,并依次经过如下浸泡处理:首先,放入浓度为75%酒精中浸泡一段时间,利用无菌水清洗一段时间后接着放入浓度为1%的次氯酸钠溶液中浸泡一段时间,利用无菌水清洗一段时间后再放入浓度为75%酒精中浸泡一段时间,利用无菌水清洗一段时间后再放入浓度为1%的次氯酸钠溶液中浸泡一段时间,最后再利用无菌水清洗干净后即可得到无菌的苔藓外植体。

进一步的是,在步骤A中,将外植体的假根部分切除后放入流水中冲洗时间为5min。

进一步的是,在步骤B中,将外植体放入超声波震荡仪中清洗2h,所述超声波震荡仪的超声波清洗频率为40kHz。

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