[实用新型]一种晶圆返工清洗装置

说明书

本实用新型提供一种晶圆返工清洗装置，具体涉及晶圆生产领域，包括电机、联轴器和沿水平面方向设置的底盘，电机的驱动轴通过联轴器与底盘相接，底盘上方设有与底盘活动连接的化学试剂存储槽；化学试剂存储槽的两端向外侧设有凸延，底盘表面设有若干与化学试剂存储槽的轮廓相匹配的限位槽，且限位槽的中心点在同一竖直方向上，化学试剂存储槽的底端嵌入限位槽内；化学试剂存储槽底部设有与化学试剂存储槽活动连接的晶圆料篮，晶圆料篮的外围为镂空状；晶圆料篮两端向外侧设有凸延，化学试剂存储槽底部也设有与晶圆料篮的轮廓相匹配的限位槽，晶圆料篮的底端嵌入限位槽内。本实用新型可方便清洗不合格晶圆，以确保生产的顺利进行。

技术领域

本实用新型属于晶圆生产领域，具体涉及一种晶圆返工清洗装置。

背景技术

晶圆是指硅半导体积体电路制作所用之硅晶片,由于其形状为圆形,故称为晶圆。晶圆的表面附着大约2微米的三氧化二铝和甘油混合液保护层,在制作前必须进行化学刻蚀和表面清洗，在表面化学刻蚀和表面清洗过程中因为某种原因有时候会出现不良品，当发现不良品如果不及时在线处理的话会耽误整条产线的流程，所以势必需要一个在线处理不合格晶圆的装置。

实用新型内容

本实用新型的目的提供一种晶圆返工清洗装置，可方便清洗不合格晶圆，以确保生产的顺利进行。

本实用新型提供了如下的技术方案：

一种晶圆返工清洗装置，包括电机、联轴器和沿水平面方向设置的底盘，所述电机的驱动轴通过所述联轴器与所述底盘相接，所述底盘上方设有与所述底盘活动连接的化学试剂存储槽；

所述化学试剂存储槽的两端向外侧设有凸延，所述底盘表面设有若干与所述化学试剂存储槽的轮廓相匹配的限位槽，且所述限位槽的中心点在同一竖直方向上，所述化学试剂存储槽的底端嵌入所述限位槽内。

所述化学试剂存储槽底部设有与所述化学试剂存储槽活动连接的晶圆料篮，所述晶圆料篮的外围为镂空状；所述晶圆料篮两端向外侧设有凸延，所述化学试剂存储槽底部也设有与所述晶圆料篮的轮廓相匹配的限位槽，所述晶圆料篮的底端嵌入所述限位槽内；

优选的，所述化学试剂存储槽的上端设有与所述化学试剂存储槽活动连接的提手。

优选的，所述提手包括把手和环状板，所述把手的两端与所述环状板的两端上表面相接；所述的环状板两端向外侧设有凸延；所述化学试剂存储槽的凸延上方设有侧开口式的挡槽；所述化学试剂存储槽的另一凸延上方也设有挡槽，且所述挡槽的开口方向相反；所述环状板的凸延嵌入所述挡槽内。

优选的，所述晶圆料篮的上方也设有提手，所述提手和晶圆料篮的连接方式与所述提手和所述化学试剂存储槽的连接方式相同。

本实用新型的有益效果：

本实用新型可方便的将晶圆料篮内返工的晶圆进行化学蚀刻和清洗，以确保生产的顺利进行；且可方便的更换化学试剂存储槽，以适用不同规格晶圆的处理。

附图说明

附图用来提供对本实用新型的进一步理解，并且构成说明书的一部分，与本实用新型的实施例一起用于解释本实用新型，并不构成对本实用新型的限制。在附图中：

图1为本实用新型主视图；

图2为提手主视图；

图3为化学试剂存储槽主视图；

图4为底盘主视图。

图中标记为：1、电机；2、联轴器；3、底盘；31、限位槽；4、化学试剂存储槽；41、挡槽；5、晶圆料篮；6、提手；61、把手；62、环形板。

具体实施方式