[实用新型]基板处理装置及其旋转台

说明书

本揭示提供一种基板处理装置及其旋转台。旋转台包含：一基板保持部，用于保持一基板；一底板，环绕所述基板保持部，且具有一中央镂空部，其中所述基板放置在所述中央镂空部的位置；以及一液体引导件，组装在所述底板上方，且与所述底板之间相隔一间距以形成一液体通道，其中当所述旋转台带动所述基板旋转时，施加在所述基板上而从所述基板甩出的液体，其通过所述液体通道流至所述旋转台的外部。

技术领域

本揭示涉及一种基板处理装置，特别是涉及一种用于处理非圆形基板的基板处理装置及其旋转台。

背景技术

在方形面板级扇出型封装制造过程中会通过基板处理装置对方形基板进行湿式蚀刻或清洗。然而，在传统的用于处理方形基板的旋转式处理装置中，其从放置基板的旋载台中心到旋载台边缘上的任一点并非等距离，使得方形基板在旋转时从不同边缘处甩出的液体会沿着不相等的路径长度朝回收环前进，如此会造成液体以不规则的路径朝四处飞溅，甚至是无法顺利地到达回收环内，进而降低液体回收率，导致液体的浪费。

有鉴于此，有必要提出一种基板处理装置及其旋转台，以解决现有技术中存在的问题。

实用新型内容

为解决上述现有技术的问题，本揭示的目的在于提供一种基板处理装置及其旋转台，其通过在放置基板的旋载台上加装附加元件，使得从旋转台的中心点到边缘上任一点的距离为等距，进而避免现有技术中因旋转台与回收环相隔的距离并非等距，使得液体以不规则的路径长度朝回收环前进，导致液体无法被确实地收集，造成液体回收率降低的问题。

为达成上述目的，本揭示提供一种基板处理装置的旋转台，包含：一基板保持部，用于保持一基板；一底板，环绕所述基板保持部，且具有一中央镂空部，其中所述基板放置在所述中央镂空部的位置；以及一液体引导件，组装在所述底板上方，且与所述底板之间相隔一间距以形成一液体通道，其中当所述旋转台带动所述基板旋转时，施加在所述基板上而从所述基板甩出的液体，其通过所述液体通道流至所述旋转台的外部。

在本揭示其中之一优选实施例当中，从所述基板保持部的中心点到所述底板的外边缘上任一点的距离相等。

在本揭示其中之一优选实施例当中，所述液体引导件包含相对的一第一侧边和一第二侧边，所述第一侧边与所述基板相邻，且形状与相邻的所述基板的外廓互补，以及所述第二侧边与位在下方的所述底板的外边缘对齐。

在本揭示其中之一优选实施例当中，所述第一侧边为一斜面，且所述斜面面对所述基板，如此所述基板旋转时向上飞溅的所述液体会通过所述斜面的阻挡而被引导至所述液体通道内。

在本揭示其中之一优选实施例当中，所述液体引导件在所述第二侧边处包含一档止部。

在本揭示其中之一优选实施例当中，所述旋转台还包含一框架，且所述基板保持部连接在所述框架的中央，以及所述底板连接在所述框架的外周围。

在本揭示其中之一优选实施例当中，所述液体引导件为多件式组合而成的结构。

在本揭示其中之一优选实施例当中，所述液体引导件为一件式结构。

本揭示还提供一种基板处理装置，包括：上述的旋转台；一驱动单元，与所述旋转台电性连接，用于驱使所述旋转台转动；以及一回收环，环绕地设置在所述旋转台的周围，并且与所述液体通道的出口对准，用于收集从所述基板甩出的所述液体。

在本揭示其中之一优选实施例当中，所述底板在靠近所述回收环处包含向下倾斜斜面。

相较于先前技术，本揭示通过在放置基板的旋载台上装设互相叠置的环型底板和液体引导件，使得当基板放置在从旋转台上时，从基板的中心点到旋转台的边缘上任一点的距离为等距，并且从基板甩出的液体会通过底板和液体引导件之间的液体通道到达旋转台的边缘。藉此设计，可使得旋载台边缘的液体以相等的路径长度朝回收环前进，进而提高液体回收率。

附图说明