[实用新型]一种用于晶体调节的五维调整机构有效

专利信息
申请号: 201820114714.9 申请日: 2018-01-24
公开(公告)号: CN207677248U 公开(公告)日: 2018-07-31
发明(设计)人: 蒋学君;曾小明;周凯南;左言磊;粟敬钦;郭仪;傅学军;林东晖;吴文龙;张昆 申请(专利权)人: 中国工程物理研究院激光聚变研究中心
主分类号: H01S3/10 分类号: H01S3/10
代理公司: 北京同辉知识产权代理事务所(普通合伙) 11357 代理人: 张明利
地址: 621900 四*** 国省代码: 四川;51
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摘要:
搜索关键词: 晶体调节 旋转调节 晶轴 动框 外框 定框 五维调整机构 本实用新型 地连接 调整架 可转动 内框 底座 俯仰角度调节机构 交叉滚子轴承 上下滑动连接 左右角度调节 调节方便 顶部设置 可滑动地 转动连接 左端
【说明书】:

实用新型涉及一种用于晶体调节的五维调整机构,包括调整架,所述调整架包括底座、箱体、绕晶轴旋转调节定框、绕晶轴旋转调节动框、晶体调节外框和晶体调节内框,所述箱体可滑动地连接在底座上,所述绕晶轴旋转调节定框设置在箱体一侧且与箱体上下滑动连接,所述绕晶轴旋转调节定框和绕晶轴旋转调节动框之间通过交叉滚子轴承转动连接,所述晶体调节外框可转动地连接在绕晶轴旋转调节动框上,所述晶体调节内框可转动地连接在晶体调节外框内,所述绕晶轴旋转调节动框的左端设置有晶体俯仰角度调节机构,所述晶体调节外框顶部设置有晶体左右角度调节机构,本实用新型能够实现晶体在五个方向的精确调节,结构简单、调节方便快捷。

技术领域

本实用新型涉及光学调节设备技术领域,具体地说涉及一种用于晶体调节的五维调整机构。

背景技术

光参量放大技术具有高增益、大带宽、高信噪比的特点,是发展超高功率激光技术的核心技术之一。光参量晶体调整架是光参量放大器的关键组件,需要对光参量晶体进行高精度、高稳定性的多维调节功能,并对晶体有防尘防潮保护功能;晶体需要进行偏振态调整控制,晶体相位匹配调整控制,晶体通光位置调整控制,然而现有技术中的光参量晶体调整架大多结构复杂、制造成本高。

基于此,特提出本实用新型。

实用新型内容

针对现有技术的种种不足,为了解决上述问题,现提出一种用于晶体调节的五维调整机构,该五维调整机构能够实现晶体在五个方向的精确调节,结构简单、调节方便快捷。

为实现上述目的,本实用新型提供如下技术方案:

一种用于晶体调节的五维调整机构,包括调整架,所述调整架包括底座、箱体、绕晶轴旋转调节定框、绕晶轴旋转调节动框、晶体调节外框和晶体调节内框,所述箱体可滑动地连接在底座上,所述绕晶轴旋转调节定框设置在箱体一侧且与箱体上下滑动连接,所述绕晶轴旋转调节定框和绕晶轴旋转调节动框之间通过交叉滚子轴承转动连接,所述晶体调节外框可转动地连接在绕晶轴旋转调节动框上,所述晶体调节内框可转动地连接在晶体调节外框内,所述绕晶轴旋转调节动框的左端设置有晶体俯仰角度调节机构,所述晶体调节外框顶部设置有晶体左右角度调节机构。

作为本实用新型进一步的方案:所述绕晶轴旋转调节动框左右两端分别设置有连接耳板,所述连接耳板上设置有第一转轴,所述晶体调节外框的两端分别通过第一转轴与连接耳板转动连接。

作为本实用新型进一步的方案:所述晶体调节外框上下两端中间位置分别设置有第二转轴,所述晶体调节内框通过第二转轴与晶体调节外框转动连接。

作为本实用新型进一步的方案:所述晶体俯仰角度调节机构包括第一减速步进电机、第一丝杠、第一连接板和第一拉簧,所述第一减速步进电机固定连接在绕晶轴旋转调节动框上,所述第一丝杠一端连接第一减速步进电机的输出端,另一端与第一连接板抵接,所述第一连接板与晶体调节外框上部固定连接,所述第一拉簧一端连接在第一减速步进电机上,另一端与第一连接板相连接。

作为本实用新型进一步的方案:所述晶体左右角度调节机构包括第二减速步进电机、第二丝杠、第二连接板和第二拉簧,所述第二减速步进电机固定连接在晶体调节外框顶部,所述第二丝杠一端连接第二减速步进电机的输出端,另一端与第二连接板抵接,所述第二连接板与晶体调节内框右侧固定连接,所述第二拉簧一端连接在第二减速步进电机上,另一端与第二连接板相连接。

作为本实用新型进一步的方案:所述箱体与底座之间设置有滑板,所述滑板上设置有第一导轨,所述箱体通过第一导轨与滑板滑动连接。

作为本实用新型进一步的方案:所述滑板的一端设置有用于调节箱体左右移动距离的左右平移手动调节座。

作为本实用新型进一步的方案:所述绕晶轴旋转调节定框通过第二导轨与箱体滑动连接,所述绕晶轴旋转调节定框顶端设置有用于调节绕晶轴旋转调节定框上下移动距离的上下平移手动调节座。

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