[实用新型]一种修整器清洗机构

权利要求书

1.一种修整器清洗机构，其特征在于，所述修整器清洗机构适于设于化学机械抛光机的工作平台上，所述工作平台上还设有抛光盘和修整器，所述修整器包括固定座和修整主体，所述固定座固定于所述工作平台，所述修整主体与所述固定座枢接以使所述修整主体可在位于所述抛光盘上方的修整位置和偏离所述抛光盘的清洗位置之间摆动，所述修整器清洗机构包括：

清洗主体，所述清洗主体设于所述工作平台上，且所述清洗主体偏离所述抛光盘设置，所述清洗主体被构造成：当所述修整主体位于所述清洗位置时，所述清洗主体可朝向所述修整主体的至少两个方位喷洒清洗液；

防溅组件，所述防溅组件设于所述清洗主体上以防止所述清洗液飞溅至所述抛光盘处。

2.根据权利要求1所述的修整器清洗机构，其特征在于，所述清洗主体包括沿水平方向延伸的上喷杆，当所述修整主体位于所述清洗位置时，所述修整主体位于所述上喷杆的下方，所述上喷杆内限定出沿其长度方向延伸的上流道，所述上喷杆设有与所述上流道连通的第一进口和至少一个第一出口，所述第一进口与清洗液源连通，所述第一出口设有用于向下喷洒所述清洗液的第一喷嘴。

3.根据权利要求2所述的修整器清洗机构，其特征在于，所述防溅组件包括两个第一挡板，两个所述第一挡板分别设于所述第一喷嘴的两侧，每个所述第一挡板的一端与所述上喷杆相连，每个所述第一挡板的另一端朝向所述修整主体的上表面延伸。

4.根据权利要求1所述的修整器清洗机构，其特征在于，所述清洗主体包括沿水平方向延伸的下喷杆，当所述修整主体位于所述清洗位置时，所述修整主体位于所述下喷杆的上方，所述下喷杆内限定出沿其长度方向延伸的下流道，所述下喷杆设有与所述下流道连通的第二进口和至少一个第二出口，所述第二进口与清洗液源连通，所述第二出口设有用于向上喷洒所述清洗液的第二喷嘴。

5.根据权利要求4所述的修整器清洗机构，其特征在于，所述防溅组件包括两个第二挡板，两个所述第二挡板分别设于所述第二喷嘴的两侧，每个所述第二挡板的一端与所述下喷杆相连，每个所述第二挡板的另一端朝向所述修整主体的下表面延伸。

6.根据权利要求1所述的修整器清洗机构，其特征在于，所述修整主体包括悬臂和修整头，所述修整头设于所述悬臂的一端，所述悬臂的另一端与所述固定座枢接，所述清洗主体包括沿竖向延伸的侧喷杆，当所述修整主体位于所述清洗位置时，所述修整头位于所述侧喷杆的左侧，所述侧喷杆内限定出沿其长度方向延伸的侧流道，所述侧喷杆上设有与所述侧流道连通的第三进口和至少一个第三出口，所述第三进口与清洗液源连通，所述第三出口设有用于向左喷洒所述清洗液的第三喷嘴。

7.根据权利要求6所述的修整器清洗机构，其特征在于，所述防溅组件包括两个第三挡板，两个所述第三挡板分别设于所述第三喷嘴的两侧，每个所述第三挡板的一端与所述侧喷杆相连，每个所述第三挡板的另一端朝向所述修整头延伸。

8.根据权利要求2或3所述的修整器清洗机构，其特征在于，所述第一进口设有第一流量调节阀。

9.根据权利要求4或5所述的修整器清洗机构，其特征在于，所述第二进口设有第二流量调节阀。

10.根据权利要求6或7所述的修整器清洗机构，其特征在于，所述第三进口设有第三流量调节阀。

11.一种化学机械抛光机，其特征在于，包括根据权利要求1-10中任一项所述的修整器清洗机构。