[实用新型]一种修整器清洗机构

说明书

本实用新型公开了一种修整器清洗机构，修整器清洗机构适于设于化学机械抛光机的工作平台上，工作平台上还设有抛光盘和修整器，修整器包括固定座和修整主体，固定座固定于工作平台，修整主体与固定座枢接以使修整主体可在位于抛光盘上方的修整位置和偏离抛光盘的清洗位置之间摆动，修整器清洗机构包括：清洗主体，清洗主体设于工作平台上，且清洗主体偏离抛光盘设置，清洗主体被构造成：当修整主体位于清洗位置时，清洗主体可朝向修整主体的至少两个方位喷洒清洗液；防溅组件，防溅组件设于清洗主体上以防止清洗液飞溅至抛光盘处。根据本实用新型的修整器清洗机构，清洗效果好，且同时可避免清洗液飞溅至抛光盘上而影响抛光质量。

技术领域

本实用新型涉及化学机械抛光技术领域，尤其是涉及一种修整器清洗机构和具有该修整器清洗机构的化学机械抛光机。

背景技术

化学机械抛光机具有工作平台、抛光盘、修整器、抛光液输送装置、抛光垫和用于夹持待抛光晶圆的抛光头，抛光盘设于工作平台的上表面，抛光垫设于抛光盘上，修整器设于工作平台上以修整晶圆或抛光垫，抛光液输送装置设于工作平台上以朝向抛光盘输送抛光液。抛光机在进行抛光工作时，抛光液将会飞溅至修整器的表面，并且抛光液将会在修整器表面形成抛光液结晶而附着在修整器上，在修整器再次进行修整工作时，由于振动等将会使附着在修整器表面的抛光液结晶掉落在抛光盘上，进而影响晶圆的抛光质量。

由此，为了避免抛光液结晶掉落在抛光盘上而影响抛光质量，需要设置清洗装置在修整器进行修整工作之前，对修整器进行清洗，以除去附着在修整器表面上的抛光液结晶。而相关技术中的清洗装置在清洗过程中通常存在以下问题：1)清洗角度单一，即仅从一个方位对修整器进行清洗，例如仅朝向修整器的底面喷射清洗液，或仅朝向修整器的顶面喷射清洗液等，由此容易造成修整器上存在清洗不到的死角，清洗效果差；2)清洗液在对修整器进行清洗时，将会飞溅至抛光盘而影响抛光质量。

实用新型内容

本实用新型旨在至少在一定程度上解决相关技术中的技术问题之一。为此，本实用新型提出一种修整器清洗机构，所述修整器清洗机构清洗效果好，且同时可避免清洗液飞溅至抛光盘上而影响抛光质量。

本实用新型还提出一种具有上述修整器清洗机构的化学机械抛光机。

根据本实用新型第一方面实施例的修整器清洗机构，所述修整器清洗机构适于设于化学机械抛光机的工作平台上，所述工作平台上还设有抛光盘和修整器，所述修整器包括固定座和修整主体，所述固定座固定于所述工作平台，所述修整主体与所述固定座枢接以使所述修整主体可在位于所述抛光盘上方的修整位置和偏离所述抛光盘的清洗位置之间摆动，所述修整器清洗机构包括：清洗主体，所述清洗主体设于所述工作平台上，且所述清洗主体偏离所述抛光盘设置，所述清洗主体被构造成：当所述修整主体位于所述清洗位置时，所述清洗主体可朝向所述修整主体的至少两个方位喷洒清洗液；防溅组件，所述防溅组件设于所述清洗主体上以防止所述清洗液飞溅至所述抛光盘处。

根据本实用新型实施例的修整器清洗机构，通过使清洗主体可朝向修整主体的至少两个方位喷洒清洗液，即可从多个方位对修整主体进行清洗，清洗覆盖范围更大，清洗更加全面，避免修整器上存在清洗不到的死角，清洗效果好，且同时通过设置防溅组件可避免清洗液飞溅至抛光盘上而影响抛光质量。

另外，根据本实用新型实施例的修整器清洗机构还可以具有如下附加技术特征：

根据本实用新型的一个实施例，所述清洗主体包括沿水平方向延伸的上喷杆，当所述修整主体位于所述清洗位置时，所述修整主体位于所述上喷杆的下方，所述上喷杆内限定出沿其长度方向延伸的上流道，所述上喷杆设有与所述上流道连通的第一进口和至少一个第一出口，所述第一进口与清洗液源连通，所述第一出口设有用于向下喷洒所述清洗液的第一喷嘴。

根据本实用新型的一个实施例，所述防溅组件包括两个第一挡板，两个所述第一挡板分别设于所述第一喷嘴的两侧，每个所述第一挡板的一端与所述上喷杆相连，每个所述第一挡板的另一端朝向所述修整主体的上表面延伸。