[实用新型]行星式研磨装置

权利要求书

1.一种行星式研磨装置，其特征在于：包括设备支架、研磨组件、公转组件以及控制组件，所述公转组件可活动地设置于所述设备支架上，所述研磨组件与所述公转组件相连接，所述研磨组件在所述公转组件的带动下实现整体转动，所述研磨组件与所述控制组件电性连接并由其驱动控制。

2.根据权利要求1所述的行星式研磨装置，其特征在于：所述设备支架包括水平支架（11）及垂直支架（12），所述垂直支架（12）固定设置于所述水平支架（11）的上端面、且二者保持垂直，所述垂直支架（12）上贯穿设置有与所述公转组件相匹配的圆形槽孔。

3.根据权利要求2所述的行星式研磨装置，其特征在于：所述水平支架（11）与所述垂直支架（12）的连接处的接缝位置还固定设置有至少一个用于保证二者间连接强度的支架固定件（13）。

4.根据权利要求2所述的行星式研磨装置，其特征在于：所述公转组件包括齿轮盘（21）、回转轴承（22）以及驱动电机（23），所述齿轮盘（21）借助所述回转轴承（22）与所述垂直支架（12）固定连接，所述齿轮盘（21）与所述圆形槽孔相匹配，所述驱动电机（23）与所述水平支架（11）固定连接，所述驱动电机（23）的输出轴上固定设置有传动齿轮，所述传动齿轮的边缘与所述齿轮盘（21）的边缘相匹配。

5.根据权利要求4所述的行星式研磨装置，其特征在于：所述齿轮盘（21）的边缘固定设置有旋转齿，所述传动齿轮与所述旋转齿啮合，所述齿轮盘（21）在所述驱动电机（23）的带动下完成转动。

6.根据权利要求4所述的行星式研磨装置，其特征在于：所述研磨组件包括砂轮研磨机构及移动调节机构，所述砂轮研磨机构包括多个砂轮（31）及多个研磨电机（32），所述砂轮（31）与所述研磨电机（32）的数量相等，所述砂轮（31）固定设置于所述研磨电机（32）的输出轴上、并在所述研磨电机（32）带动实现旋转，在装置的组合状态下，所述研磨电机（32）与所述砂轮（31）分别位于所述齿轮盘（21）的两侧。

7.根据权利要求6所述的行星式研磨装置，其特征在于：所述移动调节机构包括直线导轨（33）、电机安装座（34）以及驱动气缸（35），所述电机安装座（34）、驱动气缸（35）以及所述研磨电机（32）三者的数量、位置均一一匹配对应，所述电机安装座（34）借助所述直线导轨（33）可活动地设置于所述齿轮盘（21）上，所述驱动气缸（35）固定设置于所述齿轮盘（21）上，所述电机安装座（34）与所述驱动气缸（35）的输出轴固定连接，所述电机安装座（34）在所述驱动气缸（35）的驱动下、在所述直线导轨（33）上移动，所述研磨电机（32）固定设置于所述电机安装座（34）上，所述研磨电机（32）的输出轴贯穿所述电机安装座（34），所述研磨电机（32）与所述砂轮（31）分别位于所述电机安装座（34）的两侧。

8.根据权利要求7所述的行星式研磨装置，其特征在于：所述齿轮盘（21）上贯穿开设有多条移动槽，多条所述移动槽以所述齿轮盘（21）的圆心位置为中心、向外周发散，多条所述移动槽等距分布，所述直线导轨（33）固定设置于所述移动槽槽体两侧的边缘位置处，所述移动槽的与所述电机安装座（34）匹配对应。

9.根据权利要求7所述的行星式研磨装置，其特征在于：所述齿轮盘（21）上贯穿开设有两条移动槽，两条所述移动槽共线，所述齿轮盘（21）的圆心位于两条所述移动槽的公共轴线上。

10.根据权利要求7所述的行星式研磨装置，其特征在于：所述控制组件包括电磁阀（41）及导电滑环（42），所述电磁阀（41）固定设置于所述齿轮盘（21）上，所述驱动气缸（35）与所述电磁阀（41）管路连接、并由其驱动控制，所述导电滑环（42）固定设置于所述齿轮盘（21）的中心位置处，所述导电滑环（42）与所述研磨电机（32）均位于所述齿轮盘（21）的同侧，所述研磨电机（32）与所述导电滑环（42）电性连接、并由其供电。