[实用新型]消光装置、光学系统及光刻机有效
| 申请号： | 201820165275.4 | 申请日： | 2018-01-31 |
| 公开（公告）号： | CN207780484U | 公开（公告）日： | 2018-08-28 |
| 发明（设计）人： | 裴万生;刁雷;周剑锋 | 申请（专利权）人： | 上海微电子装备(集团)股份有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;G02B17/02 |
| 代理公司： | 北京品源专利代理有限公司 11332 | 代理人： | 孟金喆 |
| 地址： | 201203 上海市浦*** | 国省代码： | 上海;31 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 消光 光学系统 杂散光 本实用新型 传播过程 多次反射 多个阵列 光刻机 受光面 排布 受光 能量消散 | ||
1.一种消光装置，其特征在于，包括消光本体；
所述消光本体包括受光面；
所述受光面上设置有多个阵列排布的消光凹槽，以使进入到所述消光凹槽的光线在所述消光凹槽内发生多次反射。
2.根据权利要求1所述的消光装置，其特征在于，多个所述消光凹槽呈交错阵列排布。
3.根据权利要求1所述的消光装置，其特征在于，所述消光凹槽的形状为牛角形。
4.根据权利要求3所述的消光装置，其特征在于；
所述消光凹槽包括顶点和底面；
所述底面位于所述受光面上；
所述顶点与所述底面的几何中心的连线与所述底面的夹角大于或等于30°，且小于或等于60°。
5.根据权利要求4所述的消光装置，其特征在于，所述底面为圆孔且孔径为1mm，相邻两个所述底面圆孔中心距离为1.2mm。
6.根据权利要求1所述的消光装置，其特征在于；
所述消光装置为光学器件支撑座；
所述消光本体的受光面上设置有至少一个固定结构，以固定光学器件。
7.根据权利要求6所述的消光装置，其特征在于；
所述固定结构包括至少两个相对设置的光学靠面，且在所述光学靠面上设置有点胶槽，通过点胶以固定所述光学器件；
所述消光凹槽设置于相对设置的所述光学靠面之间。
8.根据权利要求6所述的消光装置，其特征在于，所述光学器件包括分束镜。
9.一种光学系统，其特征在于，
所述光学系统包括权利要求1-8中任一项所述的消光装置。
10.根据权利要求9所述光学系统，其特征在于，
所述光学系统为对准系统。
11.根据权利要求10所述光学系统，其特征在于，
所述对准系统包括多个光学镜片和至少一个所述消光装置；
所述多个光学镜片构成对准光路，其中，至少一个所述光学镜片包括杂散光出光面；包括所述杂散光出光面的所述光学镜片固定于所述消光装置上，且所述光学镜片的所述杂散光出光面与所述消光装置的受光面对应。
12.一种光刻机，其特征在于，包括权利要求9-11中任一项所述的光学系统。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于上海微电子装备(集团)股份有限公司，未经上海微电子装备(集团)股份有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201820165275.4/1.html，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：一种光刻多次曝光装置
- 下一篇：一种调焦调平装置及光刻机
