[实用新型]消光装置、光学系统及光刻机

说明书

本实用新型公开了一种消光装置、光学系统及光刻机。该消光装置包括消光本体；消光本体包括受光面；受光面上设置有多个阵列排布的消光凹槽，以使进入到消光凹槽的光线在消光凹槽内发生多次反射。本实用新型通过提供一种包括消光本体的消光装置；并设置消光本体包括受光面；受光面上设置有多个阵列排布的消光凹槽，以使进入到消光凹槽内的光线在消光凹槽内发生多次反射，以促使杂散光的能量消散，进而达到消除杂散光的目的，解决了现有的消除杂散光的方法无法消除光线在光学系统内传播过程中产生的杂散光的问题，达到了消除光线在光学系统内传播过程中产生的杂散光，提高光学系统的性能的目的。

技术领域

本实用新型涉及光学技术，尤其涉及一种消光装置、光学系统及光刻机。

背景技术

随着科技的发展，光学系统在半导体、摄像或显示等领域均具有广泛的应用前景。

但是，目前杂散光是制约光学系统性能的主要障碍，这是因为杂散光对光学系统的危害很大，将淹没对比度很低的图像或者细节，直接降低光学系统的成像质量以致影响光学系统的分辨率。杂散光的来源有很多种，比如光学系统没有做适当的遮光、光学元件被损伤、光束孔径不匹配和光学系统本身的相差和机械件内壁黑化处理不当等。

目前消除光学系统中杂散光的方式主要包括增加消杂散光光阑，增加消杂散光螺纹，在镜筒内壁进行无光发黑氧化或者喷无光漆等。但是这些方式无法消除光线在光学系统内传播过程中产生的杂散光，这使得光学系统的性能仍然不佳。

实用新型内容

本实用新型提供一种消光装置、光学系统及光刻机，以实现消除光线在光学系统内传播过程中产生的杂散光，提高光学系统的性能的目的。

第一方面，本实用新型提供了一种消光装置，该消光装置包括消光本体；

所述消光本体包括受光面；

所述受光面上设置有多个阵列排布的消光凹槽，以使进入到所述消光凹槽的光线在所述消光凹槽内发生多次反射。

进一步地，多个所述消光凹槽呈交错阵列排布。

进一步地，所述消光凹槽的形状为牛角形。

进一步地，所述消光凹槽包括顶点和底面；

所述底面位于所述受光面上；

所述顶点与所述底面的几何中心的连线与所述底面的夹角大于或等于30°，且小于或等于60°。

进一步地，所述底面为圆孔且孔径为1mm，相邻两个所述底面圆孔中心距离为1.2mm。

进一步地，所述消光装置为光学器件支撑座；

所述消光本体的受光面上设置有至少一个固定结构，以固定光学器件。

进一步地，所述固定结构包括至少两个相对设置的光学靠面，且在所述光学靠面上设置有点胶槽，通过点胶以固定所述光学器件；

所述消光凹槽设置于相对设置的所述光学靠面之间。

进一步地，所述光学器件包括分束镜。

第二方面，本实用新型还提供了一种光学系统，该光学系统包括本实用新型提供的任意一种所述的消光装置。

进一步地，所述光学系统为对准系统。

进一步地，所述对准系统包括多个光学镜片和至少一个所述消光装置；

所述多个光学镜片构成对准光路，其中，至少一个所述光学镜片包括杂散光出光面；包括所述杂散光出光面的所述光学镜片固定于所述消光装置上，且所述光学镜片的所述杂散光出光面与所述消光装置的受光面对应。

第三方面，本实用新型还提供了一种光刻机，该光刻机包括本实用新型提供的任意一种所述的光学系统。