[实用新型]溶剂槽及涂胶显影装置

说明书

本实用新型涉及半导体制造技术领域，尤其涉及一种溶剂槽及涂胶显影装置。所述溶剂槽，包括用于清洗光刻胶喷嘴的腔体及位于所述腔体顶部的开口，所述开口用于所述光刻胶喷嘴进出所述腔体，还包括控制组件和开关组件，所述控制组件，连接所述开关组件，用于判断所述光刻胶喷嘴是否从所述腔体移出，若是，则控制所述开关组件封闭所述开口。本实用新型避免了从溶剂槽中挥发的清洗溶剂对涂胶显影制程造成影响，确保了晶圆产品的质量。

技术领域

本实用新型涉及半导体制造技术领域，尤其涉及一种溶剂槽及涂胶显影装置。

背景技术

光刻工艺是半导体制造过程中的一个重要步骤。所谓光刻，就是将集成电路结构图形制作在光罩上，然后将光罩上的图形转印在涂布有光阻薄膜的晶圆上，经过穿过光罩光线的照射以及显影处理，光阻层便可呈现出与光罩上相同图形结构，并可将图形尺寸适当的缩小，以便在晶圆上制造出许多相同电路结构的集成电路产品。

用于完成光刻工艺的涂胶显影装置中的光刻胶喷嘴在完成光刻胶涂布步骤之后，光刻胶喷嘴上会有光刻胶残留，如不及时清除，则会对下一次的光刻胶涂布产生影响。为了解决这一问题，现有的涂胶显影装置中设置有溶剂槽，通过溶剂槽实现对光刻胶喷嘴的清洗。当溶剂槽对光刻胶喷嘴进行清洗的过程中，一方面，溶剂槽中的溶剂喷嘴会向光刻胶喷嘴喷射清洗剂，来去除光刻胶喷嘴中残留的光刻胶结晶；另一方面，在溶剂喷嘴完成对光刻胶喷嘴的喷射清洗后，挥发的清洗剂还会使得所述光刻胶喷嘴保持湿润，以防止光刻胶喷嘴下次喷涂后残留光刻胶结晶，减少光刻胶喷嘴的清洗次数。

但是，传统的溶剂槽均为敞口式设计，而溶剂槽中用于清洗光刻胶的清洗剂具有较强的挥发性和毒性，这就使得清洗剂会源源不断的挥发至涂胶显影装置的腔体内部。清洗剂的持续挥发会产生如下问题：(1)每次对涂胶显影装置进行开腔维护时，都会有刺激性、挥发性的有毒气体溢出，不利于工作人员的身体健康；(2)每次对涂胶显影装置进行开腔时，挥发的清洗剂还会对晶圆制造机台的整体大环境造成影响；(3)清洗剂挥发至用于容纳晶圆的腔体中，会稀释光刻胶，影响涂胶显影制程的稳定性；而且清洗剂本身是用于清除光刻胶喷嘴中的光刻胶结晶的，所以还会使旋涂于晶圆表面的光刻胶产生缺陷，影响晶圆产品的质量。

因此，如何避免溶剂槽中的清洗剂挥发对涂胶显影制程造成影响，确保晶圆产品的质量，是目前亟待解决的技术问题。

实用新型内容

本实用新型提供一种溶剂槽及涂胶显影装置，用以解决现有的溶剂槽中清洗剂挥发易影响涂胶显影制程稳定性的问题，以确保晶圆产品的质量。

为了解决上述问题，本实用新型提供了一种溶剂槽，包括用于清洗光刻胶喷嘴的腔体及位于所述腔体顶部的开口，所述开口用于所述光刻胶喷嘴进出所述腔体，还包括控制组件和开关组件，所述控制组件，连接所述开关组件，用于判断所述光刻胶喷嘴是否从所述腔体移出，若是，则控制所述开关组件封闭所述开口。

优选的，所述控制组件包括第一传感器；所述第一传感器，连接所述开关组件，用于检测在第一预设范围内是否存在光刻胶喷嘴，若否，则控制所述开关组件封闭所述开口。

优选的，所述第一传感器，还用于检测在第一预设范围内是否存在光刻胶喷嘴，若是，则控制所述开关组件开启所述开口。

优选的，所述第一传感器为接近传感器。

优选的，所述控制组件还包括第二传感器；所述第二传感器，置于所述腔体内部，用于检测所述腔体内部溶剂挥发物的浓度是否在第二预设范围内，若否，则调整所述腔体内部溶剂挥发物的浓度。

优选的，所述开关组件包括开关元件和挡板；所述开关元件，连接所述控制组件、所述挡板，用于根据所述控制组件的控制信号驱动所述挡板封闭所述开口。

优选的，所述开关组件采用耐腐蚀材料制造而成。

为了解决上述问题，本实用新型还提供了一种涂胶显影装置，包括上述任一项所述的溶剂槽。