[实用新型]一种准分子激光退火腔室有效
申请号: | 201820335530.5 | 申请日: | 2018-03-12 |
公开(公告)号: | CN207818525U | 公开(公告)日: | 2018-09-04 |
发明(设计)人: | 朱声建 | 申请(专利权)人: | 昆山国显光电有限公司 |
主分类号: | H01L21/268 | 分类号: | H01L21/268;H01L21/02;H01L21/84 |
代理公司: | 北京布瑞知识产权代理有限公司 11505 | 代理人: | 孟潭 |
地址: | 215300 江苏省*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 腔室 准分子激光退火 本实用新型 透光区域 注入区域 准分子激光器 惰性气体 分开设置 显示面板 线状激光 不均匀 晶化 发射 | ||
1.一种准分子激光退火腔室,其特征在于,所述腔室的顶部包括透光区域和气体注入区域,所述透光区域和所述气体注入区域分开设置。
2.根据权利要求1所述的准分子激光退火腔室,其特征在于,所述透光区域设置于所述腔室顶部的中心位置,所述气体注入区域设置于所述透光区域的外侧。
3.根据权利要求2所述的准分子激光退火腔室,其特征在于,所述气体注入区域包括设置于所述透光区域外围的一个环状缝隙。
4.根据权利要求2所述的准分子激光退火腔室,其特征在于,所述气体注入区域包括设置于所述透光区域外围的多个环状缝隙,所述多个环状缝隙以所述透光区域为中心依次向外排列。
5.根据权利要求3或4所述的准分子激光退火腔室,其特征在于,所述环状缝隙是连续的。
6.根据权利要求3或4所述的准分子激光退火腔室,其特征在于,所述环状缝隙是非连续的,由多个分段式缝隙单元构成。
7.根据权利要求3或4所述的准分子激光退火腔室,其特征在于,所述环状缝隙的形状为矩形环状或椭圆形环状。
8.根据权利要求2所述的准分子激光退火腔室,其特征在于,所述气体注入区域包括设置于所述透光区域长度方向两侧的第一注入区域和第二注入区域,所述第一注入区域和所述第二注入区域以所述透光区域为轴对称。
9.根据权利要求8所述的准分子激光退火腔室,其特征在于,所述第一注入区域和所述第二注入区域各包括一个或多个方向一致的长条形缝隙,所述长条形缝隙与所述透光区域平行或垂直。
10.根据权利要求1所述的准分子激光退火腔室,其特征在于,所述透光区域为长条形缝隙。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造