[实用新型]一种立式多层连续真空磁控镀膜生产线

说明书

本实用新型公开了一种立式多层连续真空磁控镀膜生产线，包括传送台、隔断板和辊筒，所述传送台的上端安装有镀膜仓，且镀膜仓的上端连接有真空泵，所述隔断板设置于镀膜仓的内部，且隔断板的外侧安装有固定螺栓，所述隔断板的下端安置有空气隔离室，且空气隔离室的左右两端设置有气体放置室。该立式多层连续真空磁控镀膜生产线镀膜仓通过隔断板和固定螺栓与空气隔离室构成拆卸结构，可以将隔断板与镀膜仓连接，使空气隔离室与镀膜仓连接固定，可以通过固定螺栓将空气隔离室与镀膜仓之间的位置固定，可以通过外接气体管可以将气体流通到气体放置室的内部，气体放置室内部的气体对于所需镀膜的产品进行喷洒式镀膜。

技术领域

本实用新型涉及真空镀膜技术领域，具体为一种立式多层连续真空磁控镀膜生产线。

背景技术

真空镀膜是指在高真空的条件下加热金属或非金属材料，使其蒸发并凝结于镀件(金属、半导体或绝缘体)表面而形成薄膜的一种方法，例如，真空镀铝、真空镀铬等，真空镀膜是真空应用领域的一个重要方面，它是以真空技术为基础，利用物理或化学方法，并吸收电子束、分子束、离子束、等离子束、射频和磁控等一系列新技术，为科学研究和实际生产提供薄膜制备的一种新工艺，简单地说，在真空中把金属、合金或化合物进行蒸发或溅射，使其在被涂覆的物体(称基板、基片或基体)上凝固并沉积的方法，称为真空镀膜。

市场上的镀膜线只能镀单一或者同种气体的膜层的问题，为此，我们提出一种立式多层连续真空磁控镀膜生产线。

实用新型内容

本实用新型的目的在于提供一种立式多层连续真空磁控镀膜生产线，以解决上述背景技术中提出的市场上的镀膜线只能镀单一或者同种气体的膜层的问题。

为实现上述目的，本实用新型提供如下技术方案：一种立式多层连续真空磁控镀膜生产线，包括传送台、隔断板和辊筒，所述传送台的上端安装有镀膜仓，且镀膜仓的上端连接有真空泵，所述隔断板设置于镀膜仓的内部，且隔断板的外侧安装有固定螺栓，所述隔断板的下端安置有空气隔离室，且空气隔离室的左右两端设置有气体放置室，所述气体放置室的外侧连接有外接气体管，所述辊筒设置于镀膜仓内部的下端，且辊筒的外侧连接有传送皮带，所述传送皮带的下端安装有伺服电机，所述传送台的下端设置有控制面板，且控制面板的左右两侧均设置有底座，所述底座的内部固定有连接凹槽，且连接凹槽的外侧连接有连接凸块，所述镀膜仓的外侧安置有检视窗。

优选的，所述镀膜仓通过隔断板和固定螺栓与空气隔离室构成拆卸结构，且隔断板与空气隔离室构成一体化结构。

优选的，所述隔断板与固定螺栓构成活动结构，且隔断板与固定螺栓之间的尺寸相吻合。

优选的，所述气体放置室与外接气体管为一组，共有4组，且每两组之间关于镀膜仓的中心线互相对称。

优选的，所述辊筒通过传送皮带与伺服电机构成转动结构，且其转动范围为0-360°。

优选的，所述底座通过连接凹槽与连接凸块构成螺纹结构，且连接凸块垂直贯穿于连接凹槽的内部。

与现有技术相比，本实用新型的有益效果是：该立式多层连续真空磁控镀膜生产线镀膜仓通过隔断板和固定螺栓与空气隔离室构成拆卸结构，可以将隔断板与镀膜仓连接，使空气隔离室与镀膜仓连接固定，可以通过固定螺栓将空气隔离室与镀膜仓之间的位置固定，可以通过外接气体管可以将气体流通到气体放置室的内部，气体放置室内部的气体对于所需镀膜的产品进行喷洒式镀膜，辊筒通过传送皮带与伺服电机构成转动结构，通过伺服电机可以控制辊筒的滚动方向，从而使所需镀膜产品可往返，可以将底座与基体连接，通过连接凸块贯穿于连接凹槽的内部，将底座与基体之间连接固定，从而使其位置不会发生改变，设有往返功能，中间有气体隔离室，可以同时镀不同布气的两种膜层，如镀二氧化硅加石墨，铬加二氧化钛，铝加二氧化硅等在同时镀膜中不会相互污染，解决了连续镀膜机不能同时镀不同气体要求的工艺问题，提高了镀层效率和镀膜质量。

附图说明