[实用新型]电容触摸屏用的消影结构和电容触摸屏

说明书

本实用新型提供了一种电容触摸屏用的消影结构和电容触摸屏，该消影结构包括玻璃基板，所述消影结构还包括依次层叠设置的第一二氧化硅膜层、氧化铟锡膜层、二氧化硅/氮化硅混合膜层、氮化硅膜层和五氧化二铌膜层；所述第一二氧化硅膜层与所述玻璃基板相邻设置，所述氧化铟锡膜层为氧化铟锡图案化电极层。该消影结构在保证氧化铟锡膜层的方阻不漂移的情况下，去调试消影效果，这样可以使消影效果更好，而且对刻蚀痕也有一定的消影效果。另外，氮化硅膜层坚硬、介电常数高，可以保护产品免受划伤、防止产品功能受影响。

技术领域

本实用新型属于触摸屏技术领域，更具体地说，是涉及一种电容触摸屏用的消影结构和电容触摸屏。

背景技术

电容触摸屏用氧化铟锡(ITO)玻璃是一种透电导电玻璃，这是由普通白玻加上一层透明导电膜而构成。ITO玻璃是在钠钙基或硅硼基基片玻璃的基础上，利用磁控溅射的方法镀上一层ITO膜加工制作成的。液晶显示器专用ITO导电玻璃，还会在镀ITO层之前，镀上一层二氧化硅阻挡层，以阻止基片玻璃上的钠离子向盒内液晶里扩散。ITO玻璃的性能指标为透过率和电阻，透过率为显示产品最重要的性能参数。

透明导电薄膜ITO传感器(ITO Sensor)为电容式触摸屏的主要部件，目前广泛应用于各类的电容式触摸屏中，该层薄膜传感器位于显示区域。通过刻蚀玻璃基板上的ITO形成ITO电极阵列，再镀金属膜，接着刻蚀金属膜在行电极与列电极交叉处形成金属桥，这便是ITO传感器的一般制作方法。ITO膜的折射率与触摸屏基板的折射率不同，ITO膜折射率一般为1.9-2.0，玻璃基板的折射率约为1.5(人视觉最敏感波段550nm附近)，导致显示区内电极(ITO膜)与电极缝隙的反射与透射光谱有较大区别，使电极与缝隙清晰可见，并且颜色不呈中性。另外触摸屏尺寸越大，要求ITO膜层的面电阻越小，则需要增大ITO膜层厚度，ITO膜层厚度的增加会使ITO膜层的可见光透过率下降，这样就导致电极与缝隙的色差越明显，严重影响视觉效果，降低显示器品质。消影增透透明导电薄膜是解决色差问题、提高可见光透过率的主要手段之一。消影膜层材料的选择需综合考虑可见光范围内材料的透过率、消光系数、折射率、稳定性等因素，一般选择五氧化二铌(Nb₂O₅)和二氧化硅(SiO₂)两种材料进行组合使用来实现消影的目的。SiO₂是LCD行业里常用光学膜材料，具有优良的光学特性，应用非常广泛。Nb₂O₅有着较高的折射率，是性能优良的常用高折射率材料之一。在玻璃衬底上先分别镀上厚度为d1、d2的Nb₂O₅和SiO₂膜层，然后再镀一定厚度的ITO膜层。这样可以通过Nb₂O₅和SiO₂膜层的调节作用，使光刻之后的传感器表面ITO区域和非IT0区域反射率非常接近，以减弱视觉反差，达到消影目的。但是随着工艺技术的进步，以及整个行业用工成本的增高，如果继续使用五氧化二铌作为电容触摸屏行业的消影材料，已经不利于相关产业的发展，并且铌作为一种稀有金属，地球上的储量有限，开采的成本相对较高，不利于整个行业的持续发展。