[实用新型]一种用于晶片湿法清洗后的氮气烘干模块

权利要求书

1.一种用于晶片湿法清洗后的氮气烘干模块，其特征在于，包括储气罐、在线加热器和烘干槽本体，所述在线加热器通过管路分别与储气罐和烘干槽本体相通，所述烘干槽本体上方设有槽盖，内部设有多路喷淋管路，所述喷淋管路上设有喷嘴，所述在线加热器通向烘干槽本体的管路通过三通管件分为多路，分别与烘干槽本体内部的多路喷淋管路一一相通，所述储气罐底部设有烘干模块进气口，所述烘干槽本体底部设有烘干模块出气口。

2.根据权利要求1所述的一种用于晶片湿法清洗后的氮气烘干模块，其特征在于，所述喷淋管路设置于烘干槽本体的内部侧壁上。

3.根据权利要求1或2所述的一种用于晶片湿法清洗后的氮气烘干模块，其特征在于，所述喷淋管路通过管夹固定于烘干槽本体的内部侧壁上。

4.根据权利要求3所述的一种用于晶片湿法清洗后的氮气烘干模块，其特征在于，所述在线加热器通向烘干槽本体的管路通过三通管件分为四路，分别与烘干槽本体内部的四路喷淋管路一一相通。

5.根据权利要求4所述的一种用于晶片湿法清洗后的氮气烘干模块，其特征在于，所述喷淋管路上均匀分布有多个喷嘴。

6.根据权利要求5所述的一种用于晶片湿法清洗后的氮气烘干模块，其特征在于，所述喷淋管路上相邻喷嘴的间隔不大于30mm。

7.根据权利要求6所述的一种用于晶片湿法清洗后的氮气烘干模块，其特征在于，所述烘干槽本体上方的槽盖为手动槽盖。

8.根据权利要求7所述的一种用于晶片湿法清洗后的氮气烘干模块，其特征在于，所述烘干槽本体与槽盖之间设有密封装置。