[实用新型]一种PEVCD卧式石墨舟结构有效
申请号: | 201820493615.6 | 申请日: | 2018-04-09 |
公开(公告)号: | CN208157378U | 公开(公告)日: | 2018-11-27 |
发明(设计)人: | 杨宝立;李时俊;伍波;张勇 | 申请(专利权)人: | 深圳市捷佳伟创新能源装备股份有限公司 |
主分类号: | H01L21/673 | 分类号: | H01L21/673;H01L31/18 |
代理公司: | 深圳市康弘知识产权代理有限公司 44247 | 代理人: | 尹彦;胡朝阳 |
地址: | 518000 广东省深圳市龙岗区横*** | 国省代码: | 广东;44 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 石墨舟片 硅片 固定杆 石英炉管 石墨舟 层叠间隔 间隔设置 水平设置 阵列排列 整体设置 不良率 放入 黑边 竖直 贴合 | ||
1.一种PEVCD卧式石墨舟结构,其特征在于:包括多个固定杆(1)、多个石墨舟片(2),所述的固定杆(1)竖直间隔设置在石英炉管(3)内,呈阵列排列;所述的石墨舟片(2)水平设置且层叠间隔固定在所述的固定杆(1)上,所述的固定杆(1)、石墨舟片(2)整体设置在石英炉管(3)的内部。
2.根据权利要求1所述的PEVCD卧式石墨舟结构,其特征在于:所述石墨舟片(2)上设置有多个第一通孔,所述的固定杆(1)穿过第一通孔,每两层石墨舟片之间还设置有分隔件(4),该分隔件上设置有第二通孔,所述的固定杆(1)穿过所述的分隔件上的第二通孔。
3.根据权利要求2所述的PEVCD卧式石墨舟结构,其特征在于:所述的分隔件(4)为圆柱状或是方块状。
4.根据权利要求1所述的PEVCD卧式石墨舟结构,其特征在于:石英炉管轴心两侧的固定杆的底部还固定设置有多个底座(5),该底座与石英炉管(3)的内壁贴合。
5.根据权利要求4所述的PEVCD卧式石墨舟结构,其特征在于:所述的底座(5)为类L型结构,包括水平壁(51)和弧形壁(52),该水平壁固定设置在最下面的两个石墨舟片之间,该弧形壁的弧形外径与石英炉管(3)的内径配合。
6.根据权利要求5所述的PEVCD卧式石墨舟结构,其特征在于:所述的水平壁(51)上设置有第三通孔,固定杆(1)穿过第三通孔。
7.根据权利要求1-6任一项所述的PEVCD卧式石墨舟结构,其特征在于:所述的固定杆两端设置有螺纹,石墨舟片通过固定杆上的螺纹和螺母固定。
8.一种包含了上述任意一项权利要求所述的PEVCD卧式石墨舟结构的卧式硅片镀减反膜机。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于深圳市捷佳伟创新能源装备股份有限公司,未经深圳市捷佳伟创新能源装备股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201820493615.6/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:一种晶片清洗及干燥用花篮装置
- 下一篇:硅片扩散石英舟装卸机
- 同类专利
- 专利分类
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造