[实用新型]一种PEVCD卧式石墨舟结构

说明书

一种PEVCD卧式石墨舟结构，包括多个固定杆、多个石墨舟片，所述的固定杆竖直间隔设置在石英炉管内，呈阵列排列；所述的石墨舟片水平设置且层叠间隔固定在所述的固定杆上，所述的固定杆、石墨舟片整体设置在石英炉管的内部，采用了石墨舟片水平的设置，硅片水平放入，当石墨舟结构在石英炉管里放置不水平的时候，硅片也还是贴合石墨舟片的，镀减反膜工艺后的硅片不会出现绕镀，硅片四周也不会产生黑边的问题，降低了硅片镀减反膜的不良率。

技术领域

本实用新型涉及太阳能硅片的制作领域，更具体地说是一种PEVCD卧式石墨舟结构。

背景技术

在光伏行业，据测算，光在硅表面的反射损失率高达35%左右，减反膜可以极高地提高电池片对太阳光的利用率，有助于提高光生电流密度，进而提高转换效率。

PECVD用于对单晶硅片、多晶硅片的表面镀减反膜。在本行业的发展中，人们一直在追求工艺的提升，提升镀减反膜的良品率。其中，石墨舟结构在工艺提升方面也有至关重要的作用。

如图3和图4，目前市场上的石墨舟结构采用了立式镀减反膜的结构，石墨舟片2竖直设置，均匀层叠间隔的固定在固定杆1上，在需要镀反射膜时，把硅片竖直放置在石墨舟片之间，与石墨舟片贴合，最后把整个石墨舟结构放置在石英炉管内镀减反膜，由于硅片6需要竖直放置，所以也在石墨舟片上设置卡点（图中未示出），以防止硅片脱落。当石墨舟结构在石英炉管里放置不水平的时候，会出现硅片表面与石墨舟片表面贴合不紧的情况，从而导致硅片导电不良，工艺后的硅片出现绕镀，硅片四周会产生黑边，致使不良品率升高。

因此，需要一种新型的石墨舟结构来降低硅片镀减反膜工艺的不良率。

实用新型内容

本实用新型的目的是提供PEVCD卧式石墨舟结构，把石墨舟片水平设置，硅片能够水平放在石墨舟片上，提高硅片镀减反膜的良率。

为达上述目的，本实用新型采用的技术方案如下：

一种PEVCD卧式石墨舟结构，包括多个固定杆、多个石墨舟片，所述的固定杆竖直间隔设置在石英炉管内，呈阵列排列；所述的石墨舟片水平设置且层叠间隔固定在所述的固定杆上，所述的固定杆、石墨舟片整体设置在石英炉管的内部。

优选地，所述石墨舟片上设置有多个第一通孔，所述的固定杆穿过第一通孔，每两层石墨舟片之间还设置有分隔件，该分隔件上设置有第二通孔，所述的固定杆穿过所述的分隔件上的第二通孔。

优选地，所述的分隔件为圆柱状或是方块状。

优选地，石英炉管轴心两侧的固定杆的底部还固定设置有多个底座，该底座与石英炉管的内壁贴合。

优选地，所述的底座为类L型结构，包括水平壁和弧形壁，该水平壁固定设置在最下面的两个石墨舟片之间，该弧形壁的弧形外径与石英炉管的内径配合。

优选地，所述的水平壁上设置有第三通孔，固定杆穿过第三通孔。

优选地，所述的固定杆两端设置有螺纹，石墨舟片通过固定杆上的螺纹和螺母固定。

一种卧式硅片镀减反膜机，包括了上述的PEVCD卧式石墨舟结构。

与现有技术相比，本实用新型至少具有以下有益效果：

本实用新型PEVCD卧式石墨舟结构，采用了把石墨舟片水平设置，硅片水平放置在石墨舟片上，当石墨舟结构在石英炉管里放置不水平的时候，硅片也是贴合石墨舟片的，镀减反膜工艺后的硅片不会出现绕镀，硅片四周也不会产生黑边；由于硅片的放置面方向与水平方向平行，故不再需要卡点，所以镀膜工艺后的硅片表面不会留有印迹,降低了镀减反膜的不良率。

附图说明

图1为一实施例的侧视图；

图2为图1的立体结构图；