[实用新型]一种全自动LP8常压等离子处理设备

权利要求书

1.一种全自动LP8常压等离子处理设备，包括外壳(1)和电极板(2)，所述电极板(2)位于外壳(1)内部，其特征在于，所述外壳(1)相对侧表面均加工有一对圆形通孔，每个所述圆形通孔内安装有金属网(3)，每个所述圆形通孔处设有吸风风扇(4)，所述外壳(1)内相对侧表面均设有挡板(5)，所述外壳(1)内侧表面均加工有卡槽，每个所述挡板(5)通过卡槽固定于外壳(1)内，每个所述挡板(5)侧表面均加工有多个通风孔(6)，所述外壳(1)内后表面加工一号圆形凹槽，所述一号圆形凹槽内嵌装有温度传感器(7)，所述外壳(1)前表面上端加工二号圆形凹槽，所述二号圆形凹槽内安装指示灯(8)，所述外壳(1)侧表面下端设有电接口(9)，所述外壳(1)前表面设有控制开关(10)，所述外壳(1)内下表面固定有控制盒(11)，所述控制盒(11)内设有线路板(12)，所述线路板(12)上封装有单片机(13)、存储模块(14)、指示灯模块(15)、定时器(16)和变压器(17)，所述单片机(13)输出端分别连接电极板(2)、吸风风扇(4)、存储模块(14)、指示灯模块(15)、定时器(16)和变压器(17)的输入端，所述单片机(13)输入端分别与温度传感器(7)、电接口(9)和控制开关(10)相连接，所述指示灯模块(15)输出端与指示灯(8)相连接。

2.根据权利要求1所述的一种全自动LP8常压等离子处理设备，其特征在于，所述外壳下表面设有两对支撑脚(18)。

3.根据权利要求1所述的一种全自动LP8常压等离子处理设备，其特征在于，所述线路板(12)上表面加工两对安装孔，每个所述安装孔内插装有铜柱(19)，所述线路板(12)通过两对铜柱(19)固定于控制盒(11)内。

4.根据权利要求1所述的一种全自动LP8常压等离子处理设备，其特征在于，所述指示灯(8)侧表面且位于二号圆形凹槽内安装有透明防护罩(20)。

5.根据权利要求1所述的一种全自动LP8常压等离子处理设备，其特征在于，所述外壳(1)前表面加工矩形开口。

6.根据权利要求1所述的一种全自动LP8常压等离子处理设备，其特征在于，所述单片机(13)型号选用STC89S52。