[实用新型]一种全自动LP8常压等离子处理设备有效
申请号: | 201820503724.1 | 申请日: | 2018-04-09 |
公开(公告)号: | CN207965694U | 公开(公告)日: | 2018-10-12 |
发明(设计)人: | 陈霄 | 申请(专利权)人: | 深圳市铂滔科技有限公司 |
主分类号: | G05D23/20 | 分类号: | G05D23/20 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 518000 广东省深圳市宝*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 圆形凹槽 挡板 圆形通孔 加工 等离子处理设备 本实用新型 外壳前表面 相对侧表面 电极板 常压 指示灯 外壳内侧表面 外壳侧表面 温度传感器 卡槽固定 外壳内部 吸风风扇 上端 侧表面 电接口 后表面 金属网 控制盒 通风孔 下表面 卡槽 内嵌 下端 | ||
本实用新型公开了一种全自动LP常压等离子处理设备,包括外壳和电极板,所述电极板位于外壳内部,所述外壳相对侧表面均加工有一对圆形通孔,每个所述圆形通孔内安装有金属网,每个所述圆形通孔处设有吸风风扇,所述外壳内相对侧表面均设有挡板,所述外壳内侧表面均加工有卡槽,每个所述挡板通过卡槽固定于外壳内,每个所述挡板侧表面均加工有多个通风孔,所述外壳内后表面加工一号圆形凹槽,所述一号圆形凹槽内嵌装有温度传感器,所述外壳前表面上端加工二号圆形凹槽,所述二号圆形凹槽内安装指示灯,所述外壳侧表面下端设有电接口,所述外壳前表面设有控制开关,所述外壳内下表面固定有控制盒。本实用新型的有益效果是,结构简单,实用性强。
技术领域
本实用新型涉及等离子处理设备领域,特别是一种全自动LP8常压等离子处理设备。
背景技术
等离子处理设备广泛应用于等离子清洗、刻蚀、等离子镀、等离子涂覆、等离子灰化和表面活化、改性等场合。通过其处理,能够改善材料的润湿能力,使多种材料能够进行涂覆、镀等操作,增强粘合力、键合力,同时去除有机污染物、油污或油脂。
中国专利文献CN 201754646 U公开了等离子处理设备,该专利通过设置输出终端冷却系统的形式,使其装置温度能够保持在预设温度,从而延长电源的使用寿命,同时提高了产品处理均匀性,改善了处理效果。但是上述专利中自动化实现不强,不能对装置同时进行常温常压调控,一定程度上影响了正常工作。
随着科技的发展,等离子处理设备也迎来了全新的时期,针对于传统形式的工艺加工,等离子处理设备的使用可使产品合格率更高,更加受到人们的青睐,但是,等离子处理设备工作过程中会产生大量的热,这些热量会导致装置工作环境温度发生变化,致使装置无法处于最佳工作环境中,影响生产产品的效果,为了解决上述问题,需要设计一种全自动LP8常压等离子处理设备。
实用新型内容
本实用新型的目的是为了解决上述问题,设计了一种全自动LP8常压等离子处理设备。
实现上述目的本实用新型的技术方案为,一种全自动LP8常压等离子处理设备,包括外壳和电极板,所述电极板位于外壳内部,其特征在于,所述外壳相对侧表面均加工有一对圆形通孔,每个所述圆形通孔内安装有金属网,每个所述圆形通孔处设有吸风风扇,所述外壳内相对侧表面均设有挡板,所述外壳内侧表面均加工有卡槽,每个所述挡板通过卡槽固定于外壳内,每个所述挡板侧表面均加工有多个通风孔,所述外壳内后表面加工一号圆形凹槽,所述一号圆形凹槽内嵌装有温度传感器,所述外壳前表面上端加工二号圆形凹槽,所述二号圆形凹槽内安装指示灯,所述外壳侧表面下端设有电接口,所述外壳前表面设有控制开关,所述外壳内下表面固定有控制盒,所述控制盒内设有线路板,所述线路板上封装有单片机、存储模块、指示灯模块、定时器和变压器,所述单片机输出端分别连接电极板、吸风风扇、存储模块、指示灯模块、定时器和变压器的输入端,所述单片机输入端分别与温度传感器、电接口和控制开关相连接,所述指示灯模块输出端与指示灯相连接。
所述外壳下表面设有两对支撑脚。
所述线路板上表面加工两对安装孔,每个所述安装孔内插装有铜柱,所述线路板通过两对铜柱固定于控制盒内。
所述指示灯侧表面且位于二号圆形凹槽内安装有透明防护罩。
所述外壳前表面加工矩形开口。
所述单片机型号选用STC89S52。
利用本实用新型的技术方案制作的一种全自动LP8常压等离子处理设备,操作简单,造价低廉,本装置通过设置自动调压功能,使其保持在常压状态,同时,利用温度传感器与吸风风扇可对其内部进行物理降温,其结构简单,方便利用。
附图说明
图1是本实用新型所述一种全自动LP8常压等离子处理设备的结构示意图;
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