[实用新型]一种光刻机的光罩存放单元及光刻机有效
| 申请号： | 201820612307.0 | 申请日： | 2018-04-26 |
| 公开（公告）号： | CN208156410U | 公开（公告）日： | 2018-11-27 |
| 发明（设计）人： | 万峰;谢华 | 申请（专利权）人： | 上海华力集成电路制造有限公司 |
| 主分类号： | G03F1/66 | 分类号： | G03F1/66;G03F7/20 |
| 代理公司： | 上海申新律师事务所 31272 | 代理人： | 俞涤炯 |
| 地址： | 201315 上海市浦东新区中国（上*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 光罩 存放单元 光刻机 干燥净化装置 本实用新型 喷嘴支撑架 产品良率 经济损失 存放台 干燥气 支撑架 断线 雾化 生长 | ||
1.一种光刻机的光罩存放单元，其特征在于，包括光罩存放台，所述光罩存放台上设置有光罩支撑架和喷嘴支撑架，所述喷嘴支撑架设置在所述光罩支撑架的外侧；
所述光罩存放单元连接一干燥净化装置，所述干燥净化装置的输入端接入干燥气，所述干燥净化装置包括多个第一输出端和多个第二输出端，所述第一输出端设置在所述喷嘴支撑架的顶端，所述第二输出端设置在所述光罩存放台的上表面；
当光罩放置在所述光罩支撑架上时，所述第一输出端所处的高度高于所述光罩的放置的高度，所述第二输出端位于所述光罩的下方。
2.根据权利要求1所述的光罩存放单元，其特征在于，所述第一输出端和所述第二输出端均采用喷嘴装置。
3.根据权利要求2所述的光罩存放单元，其特征在于，当所述光罩放置在所述光罩支撑架上时，所述喷嘴装置的喷头朝向所述光罩。
4.根据权利要求1所述的光罩存放单元，其特征在于，所述干燥净化装置包括一管道分配器，所述管道分配器的输入端连接所述干燥净化装置的输入端，所述管道分配器包括多个第一输出管路和多个第二输出管路，
每个所述第一输出管路分别连接一对应的所述第一输出端；
每个所述第二输出管路分别连接一对应的所述第二输出端。
5.根据权利要求4所述的光罩存放单元，其特征在于，每个所述第一输出管路和每个所述第二输出管路上各设置有一电磁阀。
6.根据权利要求4所述的光罩存放单元，其特征在于，每个所述第一输出管路和每个所述第二输出管路上各设置有一气体流量传感器。
7.根据权利要求1所述的光罩存放单元，其特征在于，所述光罩存放单元设置在一基座上。
8.根据权利要求1所述的光罩存放单元，其特征在于，所述光罩存放单元的上方悬挂有一旋转臂。
9.根据权利要求1所述的光罩存放单元，其特征在于，所述干燥净化装置的输入端连接一分流装置，所述分流装置连接所述光刻机的干燥气管道。
10.一种光刻机，其特征在于，包括如权利要求1-9中任一的所述光罩存放单元。
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G03F 图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版，例如掩膜，光掩膜；其所用空白掩膜或其所用薄膜；其专门适用于此的容器；其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如通过电子束；其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM]；PSM空白；其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜；其制备，例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜，例如用于校准或测试的特殊涂层或标记；其制备
