[实用新型]硅片亲水性测试仪

说明书

本实用新型公开了一种硅片亲水性测试仪，其包括机架，机架内设置有载片移载模块、滴水控制模块及图像采集模块，载片移载模块设置于机架的底部且其包括有相互平行的主动导轨和从动导轨，主动导轨和从动导轨上均对应设置有一移动块，两移动块上共同水平连接有一承接板，承接板上设置有载片平台；滴水控制模块设置于机架内的中部且位于载片移载模块的上方，滴水控制模块包括有上下平行设置的上连接导轨和下连接导轨，上连接导轨的后侧设置有连接架，连接架上连接有水滴自动控制模块，上连接导轨和下连接导轨的前侧连接有滴水模块，上连接导轨上间隔设置有多个滴水泵。本实用新型可实现对硅片亲水性测试标准的统一化、规范化和精确化。

技术领域

本实用新型涉及光伏制造与检测技术领域，特别是涉及一种硅片亲水性测试仪。

背景技术

光伏行业普遍使用臭氧来实现抗PID（电位诱发衰减），如何检测和控制抗PID效果，主要是测试氧化膜，即进行硅片亲水性测试。目前的硅片亲水性测试，主要采用人工测试的方法进行。人工测试的主观性较大，无法对测量要求进行规范化和标准化，并且无法对测试数据进行记录和存储，对后续工艺问题分析造成困难。

实用新型内容

为了克服上述问题，本实用新型提供一种硅片亲水性测试仪。

本实用新型的技术方案是提供一种硅片亲水性测试仪，其包括机架，所述机架内设置有载片移载模块、滴水控制模块及图像采集模块，所述载片移载模块设置于所述机架的底部且其包括有相互平行的主动导轨和从动导轨，所述主动导轨和所述从动导轨上均对应设置有一移动块，两移动块上共同水平连接有一承接板，所述承接板上设置有载片平台；所述滴水控制模块设置于所述机架内的中部且位于所述载片移载模块的上方，所述滴水控制模块包括有上下平行设置的上连接导轨和下连接导轨，所述上连接导轨的后侧设置有连接架，所述连接架上连接有水滴自动控制模块，所述上连接导轨和所述下连接导轨的前侧连接有滴水模块，所述上连接导轨上间隔设置有多个滴水泵。

进一步地，所述图像采集模块设置于所述机架内的上部，所述图像采集模块包括有水平设置的滑道，所述滑道上设置有能够随所述滑道左右往复移动的滑动块，所述滑动块为垂直设置，所述滑动块的前侧垂直设置有滑轨，所述滑轨上设置有能够随所述滑轨上下移动的连接块，所述连接块上连接有一CCD相机。

进一步地，所述主动导轨的一端设置有驱动所述移动块往复移动的驱动电机。

进一步地，所述滴水模块包括有移动板，所述移动板连接于所述上连接导轨和所述下连接导轨上，所述移动板的前侧面垂直连接一移动滑块，所述移动滑块上设置有连接板，所述连接板能够随所述移动滑块上下往复移动，所述连接板上设置有多个滴水嘴。

进一步地，所述上连接导轨的一端设置有驱动马达。

本实用新型的有益效果是：本实用新型的硅片亲水性测试仪在机架内设置有载片移载模块、滴水控制模块及图像采集模块，载片移载模块可实现载片平台吸附硅片后，按照设定轨迹进行精确运动，并实现滴水高度与滴水水量的自由调节；滴水控制模块实现不同滴水模式的自动控制，可实现单点与多点测试；图像采集模块采用高分辨率CCD相机对水滴进行图像采集，由而后计算出水滴的直径与面积，并判断是否合格；并可实现水滴的直径、面积、图像及合格率的数据存储。本实用新型可实现对硅片亲水性测试标准的统一化、规范化和精确化。所有数据进行存储后，可对后续工艺问题提供有效数据支持。

附图说明

图1是本实用新型一具体实施的硅片亲水性测试仪的整体结构示意图。

图2是本实用新型一具体实施的载片移载模块的立体结构示意图。

图3是本实用新型一具体实施的滴水控制模块的立体结构示意图。

具体实施方式