[实用新型]基板处理装置及用于其的过滤单元

权利要求书

1.一种基板处理装置，作为进行针对被处理基板的药液涂布工艺的基板处理装置，其特征在于，包括：

药液处理单元，其按照规定的工艺顺序处理药液；

过滤单元，其包括过滤器外壳、过滤膜和加热器，过滤器外壳设置于通过所述药液处理单元处理的所述药液的移动路径上，过滤膜对供给到所述过滤器外壳的所述药液进行过滤，加热器对所述药液进行加热。

2.根据权利要求1所述的基板处理装置，其特征在于，

所述加热器通过加热所述药液而降低经过所述过滤膜的所述药液的粘度。

3.根据权利要求1所述的基板处理装置，其特征在于，

所述加热器在所述过滤器外壳内部对所述药液进行加热。

4.根据权利要求1所述的基板处理装置，其特征在于，

所述加热器对所述过滤器外壳进行加热。

5.根据权利要求1所述的基板处理装置，其特征在于，包括：

旋转模块，其使得所述过滤器外壳旋转。

6.根据权利要求5所述的基板处理装置，其特征在于，包括：

第一排气路线，其连接于所述过滤器外壳，将利用离心力而从所述药液分离出来的气体排出至所述过滤器外壳的外部，所述离心力是通过所述过滤器外壳的旋转而产生的。

7.根据权利要求6所述的基板处理装置，其特征在于，包括：

真空压力形成部，其连接于所述第一排气路线，并且向所述第一排气路线施加真空压力。

8.根据权利要求6所述的基板处理装置，其特征在于，

所述第一排气路线同轴地配置于所述过滤器外壳的旋转中心。

9.根据权利要求1所述的基板处理装置，其特征在于，包括：

振动模块，其向所述过滤器外壳施加振动。

10.根据权利要求9所述的基板处理装置，其特征在于，包括：

第二排气路线，其连接于所述过滤器外壳，并且将气体从所述过滤器外壳内部排出至所述过滤器外壳外部。

11.根据权利要求1所述的基板处理装置，其特征在于，包括：

净化路线，其连接于所述过滤器外壳，并且对经过所述过滤膜的所述药液进行净化。

12.根据权利要求1至11中任意一项所述的基板处理装置，其特征在于，所述药液处理单元包括：

罐，其用于存储所述药液；

药液供给路线，其从所述罐开始供给所述药液，并且安装有所述过滤单元。

13.根据权利要求12所述的基板处理装置，其特征在于，所述药液处理单元包括：

脱气模块，其安装于所述药液供给路线，并且对所述药液中所包含的气体进行排除。

14.根据权利要求12所述的基板处理装置，其特征在于，

所述过滤单元以能够选择性地分离的形式结合于所述药液供给路线。

15.根据权利要求12所述的基板处理装置，其特征在于，

所述过滤单元在利用所述药液对所述过滤膜进行的预湿完成的状态下结合于所述药液供给路线。

16.根据权利要求1至11中任意一项所述的基板处理装置，其特征在于，包括：

喷嘴单元，其将经过所述过滤单元的所述药液涂布于基板。

17.根据权利要求16所述的基板处理装置，其特征在于，包括：

冷却部，其对所述药液进行冷却。