[实用新型]基板处理装置有效

专利信息
申请号: 201820719482.X 申请日: 2018-05-15
公开(公告)号: CN208729488U 公开(公告)日: 2019-04-12
发明(设计)人: 金庚模 申请(专利权)人: 凯斯科技股份有限公司
主分类号: B24B37/10 分类号: B24B37/10;B24B37/30;B24B27/00;B24B53/017
代理公司: 北京鸿元知识产权代理有限公司 11327 代理人: 姜虎;陈英俊
地址: 韩国*** 国省代码: 韩国;KR
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摘要:
搜索关键词: 研磨垫 研磨基板 基板处理装置 本实用新型 基板 基板研磨工序 基板放置部 处理效率
【权利要求书】:

1.一种基板处理装置,用于进行基板的研磨工序,其特征在于,包括:

基板放置部,其用于放置基板;

第一研磨垫,其研磨所述基板;

第二研磨垫,其与所述第一研磨垫独立地研磨所述基板。

2.根据权利要求1所述的基板处理装置,其特征在于,

还包括门架单元,其沿着所述基板移动的第一方向移动。

3.根据权利要求2所述的基板处理装置,其特征在于,

移动体为2个以上,安装于所述门架单元并沿第二方向移动,包括第一移动体和第二移动体;

所述第一研磨垫和所述第二研磨垫分别安装于所述第一移动体和所述第二移动体,沿着第二方向移动。

4.根据权利要求2所述的基板处理装置,其特征在于,

所述门架单元为2个以上,沿着所述第一方向配置,包括第一门架单元和第二门架单元,所述第一研磨垫在所述第一门架单元中沿第二方向移动,所述第二研磨垫在所述第二门架单元中沿第二方向移动。

5.根据权利要求3所述的基板处理装置,其特征在于,

所述第二方向与所述第一方向直交。

6.根据权利要求2所述的基板处理装置,其特征在于,

还包括:调节单元,其在所述第一研磨垫与所述第二研磨垫中的某一个研磨所述基板期间,调节所述第一研磨垫与所述第二研磨垫中的另一个。

7.根据权利要求6所述的基板处理装置,其特征在于,

所述调节单元安装于所述门架单元,所述门架单元安装有所述第一研磨垫和所述第二研磨垫,沿所述第一方向移动。

8.根据权利要求7所述的基板处理装置,其特征在于,

所述门架单元包括:

门架主体,其沿着所述基板的第一方向进行直线移动;

第一移动体,其用于安装所述第一研磨垫,安装于所述门架主体,沿着与所述第一方向直交的第二方向进行直线移动;

第二移动体,其用于安装所述第二研磨垫,安装于所述门架主体,沿着所述第二方向进行直线移动。

9.根据权利要求8所述的基板处理装置,其特征在于,

所述调节单元包括:

第一调节器,其在所述第二研磨垫研磨所述基板期间,调节所述第一研磨垫;

第二调节器,其在所述第一研磨垫研磨所述基板期间,调节所述第二研磨垫。

10.根据权利要求9所述的基板处理装置,其特征在于,

所述第一调节器沿着所述第二方向,配备于所述门架主体的一端,

所述第二调节器沿着所述第二方向,配备于所述门架主体的另一端。

11.根据权利要求10所述的基板处理装置,其特征在于,

所述第一调节器与所述第二调节器配置于所述基板的外侧区域。

12.根据权利要求6所述的基板处理装置,其特征在于,

所述门架单元包括:

第一门架单元,其使所述第一研磨垫相对于所述基板移动;

第二门架单元,其与所述第一门架单元独立地使所述第二研磨垫相对于所述基板移动。

13.根据权利要求12所述的基板处理装置,其特征在于,

所述调节单元包括:

第一调节器,其安装于所述第一门架单元,在所述第二研磨垫研磨所述基板期间,调节所述第一研磨垫;

第二调节器,其安装于所述第二门架单元,在所述第一研磨垫研磨所述基板期间,调节所述第二研磨垫。

14.根据权利要求13所述的基板处理装置,其特征在于,

所述第一调节器和所述第二调节器配置于所述基板的外侧区域。

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