[实用新型]单槽晶片净化清洗装置

权利要求书

1.一种单槽晶片净化清洗装置，其特征在于：它包括：机体外壳(5)，可升降盖板(1)，设置在机体外壳(5)内的清洗槽(11)，开设在清洗槽(11)上的进液阀(14)，与进液阀(14)通过导液管(16)相连的储液罐(12)，安装在清洗槽(11)下方的超声波换能器(8)，安装在清洗槽(11)侧壁上的电加热丝(13)和液位传感器(4)；

可升降盖板(1)与安装在机体外壳(5)内的液压升降装置或气压传动装置(17)相连，可升降盖板(1)底部安装有烘干装置(2)和载片架(3)；

清洗槽(11)底部开设有第一排液口(7)；

所述的电加热丝(13)、液位传感器(4)、气压传动装置(17)、超声波换能器(8)和进液阀(14)均与控制面板(6)相连。

2.根据权利要求1所述的单槽晶片净化清洗装置，其特征在于：所述的清洗槽(11)底板表面安装有电机驱动的转轮(15)，转轮(15)与控制面板(6)相连。

3.根据权利要求1所述的单槽晶片净化清洗装置，其特征在于：所述的气压传动装置(17)包括依次相连的气源、气动执行元件、气动控制阀和管子联接件。

4.根据权利要求3所述的单槽晶片净化清洗装置，其特征在于：所述的气源为空气压缩机，气动执行元件为气缸或气动马达。

5.根据权利要求1所述的单槽晶片净化清洗装置，其特征在于：第一排液口(7)与废液净化箱(9)相连，废液净化箱(9)与第二排液口(10)相连。

6.根据权利要求1至5任一项所述的单槽晶片净化清洗装置，其特征在于：所述的储液罐(12)包括5个储液小槽，5个储液小槽底部均分别通过导液管(16)与5个进液阀(14)分别相连。