[实用新型]单槽晶片净化清洗装置

说明书

本实用新型公开了一种单槽晶片净化清洗装置，它包括：机体外壳（5），可升降盖板（1），设置在机体外壳（5）内的清洗槽（11），开设在清洗槽（11）上的进液阀（14），与进液阀（14）相连的储液罐（12），安装在清洗槽（11）下方的超声波换能器（8），安装在清洗槽（11）侧壁上的电加热丝（13）和液位传感器（4）；可升降盖板（1）与安装在机体外壳（5）内的气压传动装置（17）相连，可升降盖板（1）底部安装有烘干装置（2）和载片架（3）。本实用新型结构设计合理，操作方便，自动化程度高，清洗效率高，可以一次装片，采用多种试剂进行清洗，然后烘干，可避免多槽清洗过程中转移晶片所造成的污染。

技术领域

本发明涉及光电子晶片超精密加工技术领域，特别是涉及一种单槽晶片净化清洗装置和清洗方法。

背景技术

光电子材料，如蓝宝石，碳化硅，氧化镓等，普遍具有硬度高、熔点高、透光性好、电绝缘性优良、化学性能稳定等优点，广泛应用于机械、光学、信息等高技术领域。

对于光电子材料的超精密加工过程中，切割、磨削、研磨、抛光等不同工序都会产生杂质沾污，如不清洗洁净，对后续的加工会造成严重影响。

特别是针对抛光加工后，晶片表面的杂质沾污严重，需放入清洗机清洗，目前主要的清洗设备多采用多槽清洗法，步骤繁琐，并且转移蓝宝石晶片时易发生再次污染。

发明内容

发明目的：本发明的目的是为了克服现有技术的不足，提供一种结构设计合理，使用方便，清洗效率高，自动化程度高，不需要多槽清洗，可在一个清洗槽内可清洗完成的单槽晶片净化清洗装置。本发明另一个目的是提供晶片清洗方法。

技术方案：为了实现以上目的，本发明所采用的主要技术方案为：

一种单槽晶片净化清洗装置，它包括：机体外壳，可升降盖板，设置在机体外壳内的清洗槽，开设在清洗槽上的进液阀，与进液阀通过导液管相连的储液罐，安装在清洗槽下方的超声波换能器，安装在清洗槽侧壁上的电加热丝和液位传感器；

可升降盖板与安装在机体外壳内的液压升降装置或气压传动装置相连，可升降盖板底部安装有烘干装置和载片架；

清洗槽底部开设有第一排液口，第一排液口与废液净化箱相连，废液净化箱与第二排液口相连；

所述的电加热丝、液位传感器、气压传动装置、超声波换能器和进液阀均与控制面板相连。

作为优选方案，以上所述的单槽晶片净化清洗装置，所述的清洗槽底板表面安装有电机驱动的转轮，转轮与控制面板。

作为优选方案，以上所述的单槽晶片净化清洗装置，所述的气压传动装置包括依次相连的气源、气动执行元件和气动控制阀与管子联接件等。所述的气源为空气压缩机；气动执行元件为气缸或气动马达，用来把压缩气体的压力能转化为机械能，气动控制阀用来调节气流方向，压力和流量。管子联接件在气压作用下使可升降盖板上升和下降。

作为优选方案，以上所述的单槽晶片净化清洗装置，所述的储液罐包括5 个储液小槽，5个储液小槽底部均分别通过导液管与5个进液阀分别相连。

作为优选方案，以上所述的单槽晶片净化清洗装置，所述的废液净化箱可采用北京亚欧德鹏科技有限公司生产的DP26017型号的化学实验废水处理装置。

本发明提供的单槽晶片净化清洗装置实际应用时，包括以下步骤：

A、将待清洗的蓝宝石晶片放在载片架上，完成装片过程；

B、通过控制面板控制液压升降装置或气压传动装置使可升降盖板下降至与机体外壳紧密盖合；